-
1
-
-
0032621373
-
-
A. C. Arango and S. A. Carter, Appl. Phys. Lett. 74, 1698 (1999); S. P. Lee, H. Choi, K. W. Lee, K. H. Mo, J. W. Jang, E. M. Lee, I.-M. Kim and C. E. Lee, J. Korean Phys. Soc. 48, 146 (2006).
-
A. C. Arango and S. A. Carter, Appl. Phys. Lett. 74, 1698 (1999); S. P. Lee, H. Choi, K. W. Lee, K. H. Mo, J. W. Jang, E. M. Lee, I.-M. Kim and C. E. Lee, J. Korean Phys. Soc. 48, 146 (2006).
-
-
-
-
3
-
-
23744498885
-
-
K. W. Lee, K. H. Mo, J. W. Jang and C. E. Lee, J. Korean Phys. Soc. 47, 130 (2005);
-
(2005)
J. Korean Phys. Soc
, vol.47
, pp. 130
-
-
Lee, K.W.1
Mo, K.H.2
Jang, J.W.3
Lee, C.E.4
-
4
-
-
33751052342
-
-
K. W. Lee, E. M. Lee, H. Kweon, J. Park and C. E. Lee, J. Korean Phys. Soc. 49, 1625 (2006).
-
(2006)
J. Korean Phys. Soc
, vol.49
, pp. 1625
-
-
Lee, K.W.1
Lee, E.M.2
Kweon, H.3
Park, J.4
Lee, C.E.5
-
5
-
-
0037103480
-
-
R. Valaski, L. M. Moreira, L. Micaroni and I. A. Hümmelgen, J. Appl. Phys. 92, 2035 (2002).
-
(2002)
J. Appl. Phys
, vol.92
, pp. 2035
-
-
Valaski, R.1
Moreira, L.M.2
Micaroni, L.3
Hümmelgen, I.A.4
-
7
-
-
0026897409
-
-
M. Onoda, Z. Manda, S. Morita and K. Zoshino, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 2265 (1992).
-
(1992)
Jpn. J. Appl. Phys
, vol.31
, pp. 2265
-
-
Onoda, M.1
Manda, Z.2
Morita, S.3
Zoshino, K.4
-
8
-
-
23044527239
-
-
R. Valaski, E. Silveira, L. Micaroni and I. A. Hümmelgen, J. Solid State Electrochem. 5, 261 (2001).
-
(2001)
J. Solid State Electrochem
, vol.5
, pp. 261
-
-
Valaski, R.1
Silveira, E.2
Micaroni, L.3
Hümmelgen, I.A.4
-
9
-
-
20844458222
-
-
Q. Qiao and J. T. McLeskey, Jr., Appl. Phys. Lett. 86, 153501 (2005).
-
Q. Qiao and J. T. McLeskey, Jr., Appl. Phys. Lett. 86, 153501 (2005).
-
-
-
-
10
-
-
0035655649
-
Adv. Func. Mat
-
J. Liu, Y. Shi and Y. Yang, Adv. Func. Mat. 11, 420 (2001).
-
(2001)
, vol.11
, pp. 420
-
-
Liu, J.1
Shi, Y.2
Yang, Y.3
-
11
-
-
85049057207
-
-
M. A. Díaz-García, F. Hide, B. J. Schwartz, M. R. Andersson, Q. Pei and A. J. Heeger, Synth. Metals 84, 455 (1997).
-
(1997)
Synth. Metals
, vol.84
, pp. 455
-
-
Díaz-García, M.A.1
Hide, F.2
Schwartz, B.J.3
Andersson, M.R.4
Pei, Q.5
Heeger, A.J.6
-
12
-
-
0001301985
-
-
J. Liu, Z. Shi, L. Ma and Y. Yang, J. Appl. Phys. 88, 605 (2000).
-
(2000)
J. Appl. Phys
, vol.88
, pp. 605
-
-
Liu, J.1
Shi, Z.2
Ma, L.3
Yang, Y.4
-
14
-
-
35648977348
-
-
B. D. Malhotra, W. Takashima, S. S. Pandey, R. Singal, K. Endo, M. Rikukawa and K. Kaneto, Jpn. J. Appl. Phys. 38, 6788 (1999).
-
(1999)
Jpn. J. Appl. Phys
, vol.38
, pp. 6788
-
-
Malhotra, B.D.1
Takashima, W.2
Pandey, S.S.3
Singal, R.4
Endo, K.5
Rikukawa, M.6
Kaneto, K.7
-
15
-
-
0030079861
-
-
M. Rikukawa, M. Nakagawa, H. Abe, K. Ishida, K. Sanui and N. Ogata, Thin Solid Films 273, 240 (1996).
-
(1996)
Thin Solid Films
, vol.273
, pp. 240
-
-
Rikukawa, M.1
Nakagawa, M.2
Abe, H.3
Ishida, K.4
Sanui, K.5
Ogata, N.6
-
16
-
-
0023344786
-
-
S. D. D. V. Rughooputh, S. Hotta, A. J. Heeger and F. Wudl, J. Poly. Sci. Part B, Poly. Phys. 25, 1071 (1987).
-
S. D. D. V. Rughooputh, S. Hotta, A. J. Heeger and F. Wudl, J. Poly. Sci. Part B, Poly. Phys. 25, 1071 (1987).
-
-
-
|