Plasma density, electron temperature, excited xenon density and ion-induced secondary electron emission coefficient for the vacuum ultraviolet luminous efficiency in an alternating current plasma display panel

Journal of the Korean Physical Society

Volumn 51, Issue 3, 2007, Pages 951-955

  Choi, Eun Ha ^a   Oh, Philyong ^a   Hong, Byoung Hee ^a   Kim, Yun Ki ^a   Park, Byung Joo ^a   Seo, Yoonho ^a   Cho, Guangsup ^a  

^a Kwangwoon University   (South Korea)

Author keywords

Electron temperature; Excited xenon density; Ion induced secondary electron emission coefficient; Luminous efficiency; Plasma ion density

Indexed keywords

EID: 34948863367     PISSN: 03744884     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.3938/jkps.51.951     Document Type: Article

References (18)

1. J. C. Ahn, S. B. Kim, T. S. Cho, M. C. Choi, D. G. Joh, M. W. Moon, Y. Seo, S. O. Kang, G. S. Cho, E. H. Choi and H. S. Uhm, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 2A, 860 (2002).
2. K. Tachibana, S. Feng and T. Sakai, J. Appl. Phys. 88, 4967 (2000).
3. Kunihide Tachibana, Naoki Kosugi and Tetsuo Sakai, Appl. Phys. Lett. 65, 935 (1994).
4. J. G. Kim, M. C. Choi, J. C. Ahn, T. S. Cho, D. S. Cho, J. Y. Lim, M. W. Jung, S. H. Choi, S. S. Kim, J. J. Ko, D. I. Kim, C. W. Lee, Y. H. Seo, G. S. Cho, S. O. Kang and E. H. Choi, Korean Appl. Phys. 40, 211 (2000).
5. E. H. Choi, J. C. Ahn, M. W. Moon, J. G. Kim, M. C. Choi, C. G. Ryu, S. H. Choi, T. S. Cho, Y. Jung, G. S. Cho and H. S. Uhm, IEEE Trans. Plasma Sci. TPS 30, 2160 (2002).
6. P. H. Oh, J. H. Lee, S. H. Jeong, H. S. Moon, S. B. Lee, K. B. Song, Y. Jung, Y. Kim, G. Cho, H. S. Uhm and E. H. Choi, IEEE Trans. Plasma Sci. TPS 34, 317 (2006).
7. Y. Noguchi, A. Matsuoka, K. Uchino and M. Muraoka, J. Appl. Phys. 91, 613 (2002).
8. E. H. Choi, J. C. Ahn, M. W. Moon, Y. Jung, M. C. Choi, Y. Seo, G. Cho, H. S. Uhm. K. Tachibana, K. W. Whang and M. Kristiansen, Appl. Phys. Lett. 81, 3341 (2002).
9. H. S. Uhm, K. W. Whang, E. H. Choi and S. S. Kim, Phys. Plasmas, 9, 706 (2002).
10. G. S. Cho, E. H. Choi, Y. G. Kim, H. S. Uhm, Y. D. Joo, J. G. Han, M. C. Kim and J. D. Kim, J. Appl. Phys. 87, 4113 (2000).
11. G. S. Cho, E. H. Choi, J. G. Kim, Y. G. Kim, J. J. Ko, D. I. Kim, C. W. Lee, Y. H. Seo and H. S. Uhm, Jpn. J. Appl. Phys. 38, 830 (1999).
12. H. S. Uhm, E. H. Choi and K. B. Jung, Jpn. J. Appl. Phys. 44, L271 (2005).
13. H. S. Uhm, E. H. Choi and K. B. Jung, J. Korean Phys. Soc. 47, 242 (2005).
14. H. S. Uhm, E. H. Choi and K. B. Jung, Phys. Plasmas 12, 033507 (2005).
15. J. Y. Lim, J. S. Oh, B. D. Ko, J. W. Cho, S. O. Kang, G. Cho, H. S. Uhm and E. H. Choi, J Appl. Phys. 94, 1 (2002).
16. H. S. Uhm, E. H. Choi, J. Y. Lim, Appl. Phys. Lett. 80, 737 (2002).
17. H. W. Choi, Y. J. Kim and S. J. Kwon, J. Korean Phys. Soc. 49, 1465 (2006).
18. B. K. Joung, J. S. Kim, S. O. Kwon, K. O. Song and H. J. Hwang, J. Korean Phys. Soc. 49, 1287 (2006).