Reaction-path selection with molecular orientation of CH3Cl on Si{100}

Journal of the American Chemical Society

Volumn 129, Issue 33, 2007, Pages 10052-10053

  Okada, Michio ^a,b   Goto, Seishiro ^a   Kasai, Toshio ^a  

^a OSAKA UNIVERSITY   (Japan)

^b JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

METHYL CHLORIDE; SILANE; SILICON;

ADSORPTION; ARTICLE; COLLISIONALLY ACTIVATED DISSOCIATION; DISSOCIATION; MOLECULAR MODEL; ORIENTATION; PHYSISORPTION; PROBABILITY; REACTION ANALYSIS; STEREOCHEMISTRY;

EID: 34548176744     PISSN: 00027863     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/ja070931b     Document Type: Article

References (26)

1. Bronikowski, M. J.; Harriers, R. J. J. Vac. Sci. Technol. 1995, A13, 777.
2. Colaianni, M. L.; Chen, P. J.; Gutleben, H.; Yates, J. T., Jr. Chem. Phys. Lett. 1992, 191, 561.
3. Brown, K. A.; Ho, W. Surf. Sci. 1995, 338, 111.
4. Lee, J. Y., Kim, S. Surf. Sci. 2001, 482-485, 196.
5. Rochow, E. G. J. Am. Chem. Soc. 1945, 67, 963.
6. Frank, T. C.; Falconer, J. L. Langmuir 1985, 1, 104.
7. Woelke, A.; Imanaka, S.; Watanabe, S.; Goto, S.; Hashinokuchi, M.; Okada, M.; Kasai, T. J. Electron Microscopy 2005, 54 (Supplement 1), i21.
8. Kuipers, E. W.; Tenner, M. G.; Kleyn, A. W.; Stolte, S. Nature 1988, 334, 420.
9. Geuzebroek, F. H.; Wiskerke, A. E.; Tenner, M. G.; Kleyn, A. W.; Stolte, S. J. Phys. Chem 1991, 95, 8409.
10. Curtiss, T. J.; Mackay, R. S.; Bernstein, R. B. J. Chem. Phys. 1989, 93, 7387.
11. Fecher, G. H.; Böwering, N.; Volkmer, M.; Pawlitzky, B.; Heinzmann, U. Surf. Sci. 1990, 230, L169.
12. Hou, H.; Gulding, S. J.; Rettner, C. T.; Wodtke, A. M.; Auerbach, D. J. Science 1997, 277, 80.
13. Vattuone, L.; Gerbi, A.; Rocca, M.; Valbusa, U.; Pirani, F.; Vecchiocattivi, F.; Cappelletti, D. Angew. Chem., Int. Ed. 2004, 43, 5200.
14. Komorowski, A. J.; Ternow, H.; Razaznejad, R.; Berenbak, B.; Sexton, J. Z.; Zoric, I.; Kasemo, B.; Lundqvist, B. I.; Stolte, S.; Kleyn, A. W.; Kummel, A. C. J. Chem. Phys. 2002, 117, 8185.
15. Brandt, M.; Gerber, T.; Böwering, N.; Heinzmann, U. Phys. Rev. Lett. 1998, 81, 2376.
16. Okada, M.; Goto, S.; Kasai, T. Phys. Rev. Lett. 2005, 95, 176103.
17. Okada, M.; Moritani, K.; Goto, S.; Kasai, T. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 8580.
18. King, D. A.; Wells, M. G. Surf Sci. 1972, 29, 454.
19. Brooks, P. R. Science 1976, 193, 110.
20. Stolte, S.; Reuss, J.; Schwartz, H. L. Physica 1973, 66, 211.
21. Kramer, K. H.; Bernstein, R. B. J. Chem. Phys. 1965, 42, 767.
22. Kasai, T.; Matsunami, T.; Takahashi, H.; Fukawa, T.; Ohoyama, H.; Kuwata, K. J. Phys. Chem. 1995, 99, 13597.
23. Attard, G.; Branes, C. Surfaces; Oxford University Press: Oxford, 1998; p 11.
24. Romero, A. H.; Sbraccia, C.; Silvestrelli, P. L.; Ancilotto, F. J. Chem. Phys. 2003, 119, 1085.
25. Preuss, M.; Schmidt, W. G.; Bechstedt, F. J. Phys. Chem. B 2004, 108, 7809.
26. Wilkes, J.; Lamont, C. L. A.; Siller, L.; Coquel, J. M.; Palmer, R. E. Surf. Sci. 1997, 390, 237.