Novel triode-type field emission arrays and appropriate driving method for flat lamp using carbon nanofibers grown by plasma enhanced chemical vapor deposition

Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Volumn 46, Issue 7 A, 2007, Pages 4381-4385

  Yoo, Hyeong Suk ^a   Sung, Woo Yong ^a   Yoon, Seung Jai ^a   Kim, Yong Hyup ^a   Joo, Seung Ki ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

Author keywords

Carbon nanofiber; Field emission; Flat lamp; Gate; Triode

Indexed keywords

FIELD EMISSION; LIQUID CRYSTAL DISPLAYS; LUMINANCE; PHOSPHORS; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; TRIODES;

FLAT LAMPS; GATE-VOLTAGE AMPLITUDE; TRIODE-TYPE FIELD EMISSION ARRAYS (FEA);

CARBON NANOFIBERS;

EID: 34547838267     PISSN: 00214922     EISSN: 13474065     Source Type: Journal    
DOI: 10.1143/JJAP.46.4381     Document Type: Article

References (26)

1. S. Iijima: Nature 354 (1991) 56.
2. W. A. de Heer, A. Châtelain, and D. Vgarte: Science 270 (1995) 1179.
3. Q. H. Wang, T. D. Corrigan, J. Y. Dai, R. H. Chang, and A. R. Krauss: Appl. Phys. Lett. 70 (1997) 3308.
4. Y. Chen, S. Patel, Y. Ye, D. T. Shaw, and L. Guo: Appl. Phys. Lett. 73 (1998) 2119.
5. J. M. Kim, W. B. Choi, N. S. Lee, and J. E. Jung: Diamond Relat. Mater. 9 (2000) 1184.
6. A. Haga, S. Senda, Y. Sakai, Y. Mizuta, S. Kita, and F. Okuyama: Appl. Phys. Lett. 84 (2004) 2208.
7. J.-M. Bonard, T. Stöckli, O. Noury, and A. Châtelain: Appl. Phys. Lett. 78 (2001.) 2775.
8. Y. Saito, K. Hamaguchi, R. Mizushima, S. Uemura, T. Nagasako, J. Yotani, and T. Shimojo: Appl. Surf. Sci. 146 (1999) 305.
9. Y. Saito, S. Uemura, and K. Hamaguchi: Jpn. J. Appl. Phys. 37 (1998) L346.
10. D. J. Lee, S. I. Moon, Y. H. Lee, J. E. Yoo, J. H. Park, J. Jang, and B. K. Ju: Vacuum 74 (2004) 105.
11. Y. J. Jung, G. H. Son, J. H. Park, Y. W. Kim, A. S. Berdinsky, J. B. Yoo, and C. Y. Park; Diamond Relat. Mater. 14 (2005) 2109.
12. G. H. Kim, W. J. Kim, S. M. Kim, and J. G. Son: Displays 26 (2005) 37.
13. Y. M. Wong, W. P. Kang, J. L. Davidson, W. Hofmeister, S. Wei, and J. H. Huang: Diamond Relat. Mater. 14 (2005) 697.
14. Y. S. Choi, J. H. Kang, Y. J. Park, W. B. Choi, C. J. Jo, S. H. Jo, C. G. Lee, J. H. You, J. E. Jung, N. S. Lee, and J. M. Kim: Diamond Relat. Mater. 10 (2001.) 1705.
15. H. S. Yoo, S. J. Yoon, W. Y. Sung, Y. H. Kim, and S. K. Joo: presented at 2.1.0th Meet., Electrochemical Society, 2006.
16. F. A. Lowenheim: Morden Electroplating (McGraw-Hill, New York, 1978)p. 287.
17. S. L. Fang, A. M. Rao, P. C. Eklund, P. Nikolaev, A. G. Rinzler, and R. E. Smalley: J. Mater. Res. 13 (1998) 2405.
18. A. M. Rao, A. Jorio, M. A. Pimenta, M. S. S. Dantas, R. Saito, G. Dresselhaus, and M. S. Dresselhaus: Phys. Rev. Lett. 84 (2000) 1820.
19. R. H. Fowler and L. W. Nordheim: Proc. R. Soc. London, Ser. A 119 (1928) 173.
20. L. W. Nordheim: Proc. R. Soc. London, Ser. A 121 (1928) 626.
21. V. A. Bolchouchine, E. T. Goldburt, B. N. Levonovitch, V. N. Litchmanova, and N. P. Sochtine: J. Lumin. 87-89 (2000) 1277.
22. Y.-S. Fran and T.-Y. Tseng: Mater. Chem. Phys. 61 (1999) 166.
23. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, and H. Dai: Science 283 (1999) 512.
24. A. M. Rao, D. Jacques, R. C. Hadden, W. Zhu, C. Bower, and S. Jin: Appl. Phys. Lett. 76 (2000) 3813.
25. L. M. Sheng, M. Liu, P. Liu, Y. Wei, L. Liu, and S. S. Fan: Appl. Surf. Sci. 250 (2005) 9.
26. B. Zeng, G. Xiong, S. Chen, W. Z. Wang, D. Z. Wang, and Z. F. Ren: Appl. Phys. Lett. 89 (2006) 223119.