Functionally modified macroporous membrane prepared by using pulsed laser deposition

Advanced Functional Materials

Volumn 17, Issue 3, 2007, Pages 443-450

  Pereira, Antonio ^a   Laplante, François ^a   Chaker, Mohamed ^a   Guay, Daniel ^a  

^a INRS EMT   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBON MONOXIDE; GOLD; KINETIC ENERGY; PLATINUM; PORE SIZE; PULSED LASER DEPOSITION; THICK FILMS;

ALUMINUM ANODIC OXIDE (AAO); ELECTROCATALYTIC PROPERTIES; PURE METALS;

POROUS MATERIALS;

EID: 33847047466     PISSN: 1616301X     EISSN: 16163028     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/adfm.200600866     Document Type: Article

References (42)

1. a) C. R. Martin, Science 1994, 266, 1961.
2. b) B. B. Lakshmi, C. J. Patrissi, C. R. Martin, Chem. Mater. 1997, 9, 2544.
3. a) H. Masuda, K. Fukuda, Science 1995, 268, 1466.
4. b) H. Masuda, M. Satoh, Jpn. J. Appl. Phys. Part 2 1996, 35, L120.
5. a) M. Steinhart, J. H. Wendorff, A. Greiner, R. B. Wehrspohn, K. Nielsch, J. Schilling, J. Choi, U. Gosele, Science 2002, 296, 1997.
6. b) J. Li, C. Papadopoulos, J. M. Xu, M. Moskovits, Appl. Phys. Lett. 1999, 75, 367.
7. c) T. Yanagishita, M. Sasaki, K. Nishio, H. Masuda, Adv. Mater. 2004, 16, 429.
8. a) N. I. Kovtyukhova, T. E. Mallouk, T. S. Mayer, Adv. Mater. 2003, 15, 780.
9. b) G. Meng, A. Cao, J.-Y. Cheng, A. Vijayaraghavan, Y. J. Jung, M. Shima, P. M. Ajayan, J. Appl. Phys. 2005, 97, 064 303.
10. a) J. Liang, H. Chik, A. Yin, J. Xu, J. Appl. Phys. 2002, 91, 2544.
11. b) H. Masuda, K. Yasui, K. Nishio, Adv. Mater. 2000, 12, 1031.
12. c) Y. Lei, W. K. Chim, Chem. Mater. 2005, 17, 580.
13. d) W. Nam, H. Seo, S. C. Park, C. H. Bae, S. H. Nam, S. M. Park, J. S. Ha, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1 2004, 43, 7793.
14. e) C. Kim, J. B. Park, H.-G. Jee, S. B. Lee, J.-H. Boo, S. K. Kim, J.-B. Yoo, J. S. Lee, H. Lee, J. Nanosci. Nanotechnol. 2005, 5, 306.
15. a) U. Welp, Z. L. Xiao, J. S. Jiang, V. K. Vlasko-Vlasov, S. D. Bader, G. W. Crabtree, J. Liang, H. Chik, J. M. Xu, Phys. Rev. B: Condens. Matter Mater. Phys. 2002, 66, 212507.
16. b) Z. L. Xiao, C. Y. Han, U. Welp, H. H. Wang, V. K. Vlasko-Vlasov, W. K. Kwosk, D. J. Miller, J. M. Hiller, R. E. Cook, G. A. Willing, G. W. Crabtree, Appl. Phys. Lett. 2002, 81, 2869.
17. c) K. Liu, C. L. Chien, IEEE Trans. Magn. 1998, 34, 1021.
18. E. D. Mishina, V. I. Stadnichuk, A. S. Sigov, Y. I. Golovko, V. M. Mukhorotov, S. Nakabayashi, H. Masuda, D. Hashizume, A. Nakao, Phys. E 2004, 25, 35.
19. J. W. Elam, G. Xiong, C. Y. Han, H. H. Wang, J. P. Birell, J. N. Hryn, M. J. Pellin, J. F. Poco, J. H. Satcher, Jr., Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 2005, 876E, R12.6.1.
20. a) M. Ohring, in The Materials Science of Thin Films, Academic, Boston, MA 1992.
21. b) Z. Long, J. M. Valles, J. Low Temp. Phys. 2005, 139, 429.
22. N. Pavenayotin, J. M. D. Stewart, J. J. M. Valles, A. Yin, J. M. Xu, Appl. Phys. Lett. 2005, 87, 193 111.
23. D. B. Chrisey, G. K. Hubler, in Pulsed Laser Deposition of Thin Films, Wiley, New York 1994.
24. a) E. Irissou, B. L. Drogoff, M. Chaker, D. Guay, Appl. Phys. Lett. 2002, 80, 1716.
25. b) E. Irissou, B. L. Drogoff, M. Chaker, D. Guay, J. Appl. Phys. 2003, 94, 4796.
26. c) E. Irissou, B. LeDrogoff, M. Chaker, M. Trudeau, D. Guay, J. Mater. Res. 2004, 19, 950.
27. d) E. Irissou, F. Vidal, T. Johnston, M. Chaker, D. Guay, A. N. Ryabinin, J. Appl. Phys. 2006, 99, 034904.
28. E. Irissou, R. Dolbec, D. Riabinina, B. Le Drogoff, M. A. El Khakani, F. Rosei, M. Chaker, D. Guay, unpublished.
29. a) Z. Pászti, Z. E. Horváth, G. Petõ, A. Karacs, L. Guczi, Appl. Surf. Sci. 1997, 109-110, 67.
30. b) C. N. Afonso, R. Serna, J. M. Ballesteros, A. K. Petford-Long, R. C. Doole, Appl. Surf. Sci. 1998, 127-129, 339.
31. c) C. N. Afonso, J. Gonzalo, R. Serna, J. G. G. de Sande, C. Ricolleau, C. Grigis, M. Gandais, D. E. Hole, P. D. Townsend, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 1999, 69, S202.
32. d) R. Serna, C. N. Afonso, J. M. Ballesteros, A. Naudon, D. Babonneau, A. K. Petford-Long, Appl. Surf. Sci. 1999, 138-139, 1.
33. G. A. Somorjai, in Introduction to Surface Chemistry and Catalysis, Wiley, New York 1994.
34. H. Wise, J. Oudar, in Material Concepts in Surface Reactivity and Catalysis, Academic, New York 1990.
35. P. L. Hagans, K. E. Swider, D. R. Rolisson, in Electrode Materials and Processes for Energy Conversion and Storage IV, Electrochemical Society, Pennington, NJ 1997, pp. 86-105.
36. G. Lalande, M. C. Denis, D. Guay, J. P. Dodelet, R. Schulz, J. Alloys Compd. 1999, 292, 301.
37. A. M. De Becdelievre, J. De Becdelievre, J. Clavilier, J. Electroanal. Chem. Interfacial Electrochem. 1990, 294, 97.
38. B. E. Conway, H. Angerstein-Kozlowska, W. B. A. Sharp, E. E. Criddle, Anal. Chem. 1973, 45, 1331.
39. a) H. A. Gasteiger, N. Markovic, P. N. Ross, E. J. Cairns, J. Phys. Chem. 1994, 98, 617.
40. b) Z. Jusys, J. Kaiser, R. J. Behm, Electrochim. Acta 2002, 47, 3693.
41. c) C. Korzeniewski, R. Basnayakr, G. Vijayaraghavan, Z. Li, S. Xu, J. D. J. Casadonte. Surf. Sci. 2004, 573, 100.
42. H. Angerstein-Kozlowska, E. Yeager. in Comprehensive Treatise of Electrochemistry, Vol. 9 (Eds: J. O. B. Bockris, B. E. Conway, S. Sarangapani), Plenum, New York 1984.