Preparation and conversion electron Mössbauer study of Fe 3O 4/α-Fe 2O 3 composite films

Physica Status Solidi (A) Applications and Materials Science

Volumn 203, Issue 15, 2006, Pages 3705-3712

  Niu, Z P ^a,b   Wang, Y ^a   Li, F S ^a  

^a LANZHOU UNIVERSITY   (China)

^b NANKAI UNIVERSITY   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ARGON PRESSURE; COMPOSITE FILMS; OXYGEN LOSS; VIBRATING SAMPLE MAGNETOMETER (VSM);

IRON OXIDES; MAGNETORESISTANCE; MAGNETRON SPUTTERING; MOSSBAUER SPECTROSCOPY; SINTERING; X RAY DIFFRACTION;

THIN FILMS;

EID: 33845928770     PISSN: 18626300     EISSN: 18626319     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pssa.200622029     Document Type: Article

References (26)

1. R. A. de Groot, F. M. Mueller, P. G. van Engen, and K. H. J. Buschow, Phys. Rev. Lett. 50, 2024 (1983).
2. K. Schwarz, J. Phys. F 16, L211 (1986).
3. Z. Zhang and S. Satpathy, Phys. Rev. B 44, 13319 (1991).
4. M. Pénicaud, B. Siberchicot, C. B. Sommers, and J. Kübler, J. Magn. Magn. Mater. 103, 212 (1992).
5. J. M. De Teresa, A. Barthélémy, A. Fert, J. P. Contour, R. Lyonnet, F. Montaigne, P. Seneor, and A. Vaurès, Phys. Rev. Lett. 82, 4288 (1999).
6. K. P. Kämper, W. Schmitt, G. Güntherodt, R. J. Gambino, and R. Ruf, Phys. Rev. Lett. 59, 2788 (1987).
7. Y. S. Dedkov, U. Rüdiger, and G. Güntherodt, Phys. Rev. B 65, 064417 (2002).
8. J. H. Park, E. Vescovo, H. J. Kim, C. Kwon, R. Ramesh, and T. Venkatesan, Nature 392, 794 (1998).
9. H. Y. Hwang and S.-W. Cheong, Science 278,1607 (1997).
10. J. M. D. Coey, A. E. Berkowitz, L. Balcells, F. F. Putris, and A. Barry, Phys. Rev. Lett. 80, 3815 (1998).
11. P. Chen, D. Y. Xing, Y. W. Du, J. M. Zhu, and D. Feng, Phys. Rev. Lett. 87, 107202-1 (2001).
12. H. Y. Hwang, S.-W. Cheong, N. P. Ong, and B. Batlogg, Phys. Rev. Lett. 77, 2041 (1996).
13. P. Seneor, A. Fert, J.-L. Maurice, F. Montaigne, F. Petroff, and A. Vaures, Appl. Phys. Lett. 74, 4017 (1999).
14. K. Ghosh, S. B. Ogale, S. P. Pai, M. Robson, Eric Li, I. Jin, Zi-wen Dong, R. L. Greene, R. Ramesh, T. Venkatesan, and M. Johnson, Appl. Phys. Lett. 73, 689 (1998).
15. S. Soeya, J. Hayakawa, H. Takahashi, K. Ito, C. Yamamoto, A. Kida, H. Asano, and M. Matsui, Appl. Phys. Lett. 80, 823 (2002).
16. X. W. Li, A. Gupta, G. Xiao, W. Qian, and V. P. Dravid, Appl. Phys. Lett. 73, 3282 (1998).
17. J. M. D. Coey, J. Appl. Phys. 85, 5576 (1999).
18. J. M. D. Coey, Appl. Phys. Lett. 72, 734 (1998).
19. J. M. Li, A. C. H. Huan, L. Wang, Y. W. Du, and D. Feng, Phys. Rev. B 61, 6876 (2000).
20. G. Hu and Y. Suzuki, Phys. Rev. Lett. 89, 276601-1 (2002).
21. G. Hu, R. Chopdekar, and Y. Suzuki, J. Appl. Phys. 93, 7516 (2003).
22. W. Kim, K. Kawaguchi, N. Koshizaki, M. Sohma, and T. Matsumoto, J. Appl. Phys. 93, 8032 (2003).
23. K. Liu, L. Zhao, P. Klavins, F. E. Osterloh, and H. Hiramatsu, J. Appl. Phys. 93, 7951 (2003).
24. T. Furubayashi, J. Appl. Phys. 93, 8026 (2003).
25. E. De Grave, R. M. Persoons, R. E. Vandenberghe, and P. M. A. de Bakker, Phys. Rev. B 47, 5881 (1993).
26. C. Frandsen and S. Mørup, Phys. Rev. Lett. 94, 027202 (2005).