Rapid preparation of Eu:YVO4 films by microwave irradiation assisted chemical bath deposition

Acta Chimica Sinica

Volumn 63, Issue 7, 2005, Pages 612-616

  Xu, Hai Yan ^a   Jia, Lin ^a   Xu, Si Le ^a   Li, Xu Dong ^a   Wang, Hao ^a   Yan, Hui ^a  

^a BEIJING UNIVERSITY OF TECHNOLOGY   (China)

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Chemical bath deposition; Eu:YVO4 thin film; Microwave irradiation

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EID: 33746301243     PISSN: 05677351     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: None     Document Type: Article

References (34)

1. Maunders, E. A.; Deshazer, L. G. J. Opt. Soc. Am. 1971, 61, 684.
2. O'Connor, J. R. Appl. Phys. Lett. 1966, 9, 407.
3. Fields, R. A.; Birnbaum, M.; Fincher, C. L. Appl. Phys. Lett. 1987, 51, 1885.
4. Levine, A. K.; Palilla, F. C. Appl. Phys. Lett. 1964, 5, 118.
5. Yu, M.; Lin, J.; Wang, Z.; Fu, J.; Wang, S.; Zhang, H.-J.; Han, Y.-C. Chem. Mater. 2002, 14, 2224.
6. Wanmaker, W. L.; Bril, A.; Ter Vrugt, J. W.; Broos, J. Philips Res. Rep. 1966, 21, 270.
7. Ekambaram, S.; Patil, K. C. J. Alloys Compd. 1995, 217, 104.
8. Erdei, S. J. Mater. Sci. 1995, 30, 4950.
9. Xu, H.-Y.; Wang, H.; Meng, Y.-Q.; Yan, H. Solid State Commun. 2004, 130, 465.
10. Sun, L.-D.; Zhang, Y.-X.; Zhang, J.; Yan, C.-H.; Liao, C.-S.; Lu, Y.-Q. Solid State Commun. 2002, 124, 35.
11. Riwotzki, K.; Haase, M. J. Phys. Chem. B 1998, 102, 10129.
12. Wu, H.; Xu, H.; Su, Q.; Chen, T.; Wu, M. J. Mater. Chem. 2003, 13, 1223.
13. Huignard, A.; Gacoin, T.; Boilot, J. P. Chem. Mater. 2000, 12, 1090.
14. Huignard, A.; Buissette, V.; Laurent, G.; Gacoin, T.; Boilot, J. P. Chem. Mater. 2002, 14, 2264.
15. Kang, W.; Park, J.; Kim, D.-K.; Suh, K.-S. Bull. Korean Chem. Soc. 2001, 22, 921.
16. Korzenski, M. B.; Lecoeur, P.; Mercey, B.; Raveau, B. Chem. Mater. 2001, 13, 1545.
17. Bai, G.-R.; Zhang, H.; Foster, C. M. Thin Solid Films 1998, 321, 115.
18. Watanabe, T.; Cho, W.-S.; Suchanek, W. L.; Endo, M.; Ikuma, Y.; Yoshimura, M. Solid State Sci. 2001, 3, 183.
19. Hirano, S.-I.; Yogo, T.; Kikuta, K.-I.; Sakamoto, W.; Koganei, H. J. Am. Ceram. Soc. 1996, 79, 3041.
20. Yu, M.; Lin, J.; Wang, Z.; Fu, J.; Wang, S.; Zhang, H.-J.; Han, Y.-C. Chem. Mater. 2002, 14, 2224.
21. Mane, R. S.; Lokhande, C. D. Mater. Chem. Phys. 2000, 65, 1.
22. Niesen, T. P.; De Guire, M. R. J. Electroceram. 2001, 6, 169.
23. Cheng, J.; Fan, D.-B.; Wang, H.; Liu, B.-W.; Zhang, Y.-C.; Yan, H. Semicond. Sci. Technol. 2003, 18, 676.
24. O'Brien, P.; McAleese, J. J. Mater. Chem. 1998, 8, 2309.
25. Choi, J. Y.; Kim, K.-J.; Yoo, J.-B.; Kim, D. Sol. Energy 1998, 64, 41.
26. Lokhande, C. D.; Pathan, H. M.; Giersig, M.; Tributch, H. Appl. Surf. Sci. 2002, 187, 101.
27. Vigil, O.; Rodriguez, Y.; Zelaya-Angel, O.; Vazquez-Lopez, C.; Morales-Acevedo, A.; Vazquez-Luna, J. G. Thin Solid Films 1998, 322, 329.
28. Ortega-López, M.; Avila-García, A.; Albor-Aguilera, M. L.; Resendiz, V. M. S. Mater. Res. Bull. 2003, 38, 1241.
29. Vigil, E.; Saadoun, L.; Ayllón, J. A.; Domènech, X.; Zumeta, I.; Rodríguez-Clemente, R. Thin Solid Films 2000, 365, 12.
30. Xu, X.-C.; Yang, W.-S.; Liu, J.; Lin, L. W. Adv. Mater. 2000, 3(12), 195.
31. Liao, X.-H.; Zhu, J.-M.; Zhu, J.-J.; Xu, J. Z.; Chen, H. Y. Chem. Commun. 2001, 10, 37.
32. Palchik, O.; Zhu, J.-J.; Gedanken, A. J. Mater. Chem. 2000, 10, 1251.
33. Zhu, J.-J.; Palchik, O.; Chen, S.-G.; Gedanken, A. J. Phys. Chem. B 2000, 104, 7344.
34. Hsu, C.; Powell, R. C. J. Lumin. 1975, 10, 273.