Correlation between 577 cm-1 Raman scattering and green emission in ZnO ordered nanostructures

Applied Physics Letters

Volumn 88, Issue 19, 2006, Pages

  Yang, Yingling ^a   Yan, Hongwei ^a   Fu, Zhengping ^a   Yang, Beifang ^a   Zuo, Jian ^a  

^a NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

ANNEALING; CORRELATION METHODS; ELECTRODEPOSITION; LASER BEAM EFFECTS; LIGHT EMISSION; NANOSTRUCTURED MATERIALS; PHOTOLUMINESCENCE; RAMAN SCATTERING; TEMPERATURE;

DEPOSITION TEMPERATURE; GREEN EMISSION; RESONANT RAMAN SCATTERING (RRS); UV LASER IRRADIATION;

ZINC OXIDE;

EID: 33646776020     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.2202741     Document Type: Article

References (19)

1. U. Ozgur, Y. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Dogan, V. Avrutin, S. J. Cho, and H. Morkoc, J. Appl. Phys. 98, 041301 (2005).
2. H. M. Cheng, H. C. Hsu, Y. K. Tseng, L. J. Lin, and W. F. Hsieh, J. Phys. Chem. B 109, 8749 (2005).
3. K. A. Alim, V. A. Fonoberov, and A. A. Balandin, Appl. Phys. Lett. 86, 053103 (2005).
4. Y. J. Xing, Z. H. Xi, Z. Q. Xue, X. D. Zhang, J. H. Song, R. M. Wang, J. Xu, Y. Song, S. L. Zhang, and D. P. Yu, Appl. Phys. Lett. 83, 1689 (2003).
5. Z. Q. Chen, A. Kawasuso, Y. Xu, H. Naramoto, X. L. Yuan, T. Sekiguchi, R. Suzuki, and T. Ohdaira, J. Appl. Phys. 97, 013528 (2005).
6. Z. Q. Chen, A. Kawasuso, Y. Xu, H. Naramoto, X. L. Yuan, T. Sekiguchi, R. Suzuki, and T. Ohdaira, Phys. Rev. B 71, 115213 (2005).
7. A. Kaschner, U. Haboeck, M. Strassburg, M. Strassburg, G. Kaczmarczyk, A. Hoffmann, C. Thomsen, A. Zeuner, H. R. Alves, D. M. Hofmann, and B. K. Meyer, Appl. Phys. Lett. 80, 1909 (2002).
8. C. Bundesmann, N. Ashkenov, M. Schubert, D. Spemann, T. Butz, E. M. Kaidashev, M. Lorenz, and M. Grundmann, Appl. Phys. Lett. 83, 1974 (2003).
9. D. Li, Y. H. Leung, A. B. Djurisic, Z. T. Liu, M. H. Xie, S. L. Shi, S. J. Xu, and W. K. Chan, Appl. Phys. Lett. 85, 1601 (2004).
10. F. J. Manjon, B. Mari, J. Serrano, and A. H. Romero, J. Appl. Phys. 97, 053516 (2005).
11. H. W. Yan, Y. L. Yang, Z. P. Fu, B. F. Yang, L. S. Xia, S. Q. Fu, and F. Q. Li, Electrochem. Commun. 7, 1117 (2005).
12. L. Spanhel and M. A. Anderson, J. Am. Chem. Soc. 113, 2826 (1991).
13. A. van Dijken, E. A. Meulenkamp, D. Vanmaekelbergh, and A. Meijerink, J. Lumin. 87-89, 454 (2000).
14. N. S. Norberg and D. R. Gamelin, J. Phys. Chem. B 109, 20810 (2005).
15. S. Peulon and D. Lincot, J. Electrochem. Soc. 145, 864 (1998).
16. T. Pauporte and D. Lincot, Electrochim. Acta 0013-4686 10.1016/S0013-4686(00)00405-9 45, 3345 (2000); Q. T. Wang, G. Z. Wang, J. S. He, X. H. Han, B. Xu and J. G. Hou, Thin Solid Films 492, 61 (2005).
17. T. Pauporte and D. Lincot, Electrochim. Acta 0013-4686 10.1016/S0013-4686(00)00405-9 45, 3345 (2000); Q. T. Wang, G. Z. Wang, J. S. He, X. H. Han, B. Xu and J. G. Hou, Thin Solid Films 492, 61 (2005).
18. H. Zhou, H. Alves, D. M. Hofmann, W. Kriegseis, B. K. Meyer, G. Kaczmarczyk, and A. Hoffmann, Appl. Phys. Lett. 80, 210 (2002).
19. X. J. Feng, L. Feng, M. H. Jin, J. Zhai, L. Jiang, and D. B. Zhu, J. Am. Chem. Soc. 126, 62 (2004).