Potential modulated multilayer deposition of multisegment Cu/Ni nanowires with tunable magnetic properties

Chemistry of Materials

Volumn 18, Issue 6, 2006, Pages 1595-1601

  Chen, Min ^a   Chien, Chia Ling ^b   Searson, Peter C ^a  

^a Johns Hopkins University   (United States)

^b JOHNS HOPKINS UNIVERSITY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DIPOLAR COUPLING; FERROMAGNETIC PARTICLES; MICROMAGNETIC SIMULATIONS; MULTILAYER DEPOSITION;

ASPECT RATIO; COPPER; DEPOSITION; MAGNETIC PROPERTIES; MAGNETIZATION; MICROSTRUCTURE; MULTILAYERS; NICKEL;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 33645510114     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm052262b     Document Type: Article

References (38)

1. Ross, C. A.; Hwang, M.; Shima, M.; Cheng, J. Y.; Farhoud, M.; Savas, T. A.; Smith, H. I.; Schwarzacher, W.; Ross, F. M.; Redjdal, M.; Humphrey, F. B. Phys. Rev. B 2002, 65, 144417.
2. Meier, J.; Doudin, B.; Ansermet, J. P. J. Appl. Phys. 1996, 79, 6010-6012.
3. Sellmyer, D. J.; Zheng, M.; Skomski, R. J. Phys.: Condens. Matter 2001, 13, R433-R460.
4. Whitney, T. M.; Jiang, J. S.; Searson, P. C.; Chien, C. L. Science 1993, 261, 1316-1319.
5. Tanase, M.; Bauer, L. A.; Hultgren, A.; Silevitch, D. M.; Sun, L.; Reich, D. H.; Searson, P. C.; Meyer, G. J. Nano Lett. 2001, 1, 155-158.
6. Possin, G. E. Rev. Sci. Instrum. 1970, 41, 772-774.
7. Martin, C. R. Science 1994, 266, 1961-1966.
8. A1 Mawlawi, D.; Coombs, N.; Moskovits, M. J. Appl. Phys. 1991, 70, 4421-4425.
9. Li, C. Z.; Lodder, J. C. J. Magn. Magn. Mater. 1990, 88, 236-246.
10. Beeli, C.; Doudin, B.; Ansermet, J. P.; Stadelmann, P. J. Magn. Magn. Mater. 1996, 164, 77-90.
11. Ferre, R.; Ounadjela, K.; George, J. M.; Piraux, L.; Dubois, S. Phys. Rev. B 1997, 56, 14066-14075.
12. Sun, L.; Searson, P. C.; Chien, C. L. Appl. Phys. Lett. 1999, 74, 2803-2805.
13. Sun, L.; Searson, P. C.; Chien, C. L. Phys. Rev. B 2000, 61, R6463-R6466.
14. Mallet, J.; Yu-Zhang, K.; Chien, C. L.; Eagleton, T. S.; Searson, P. C. Appl. Phys. Lett. 2004, 84, 3900-3902.
15. Huang, Y. H.; Okumura, H.; Hadjipanayis, G. C.; Weller, D. J. Appl. Phys. 2002, 91, 6869-6871.
16. Chu, S. Z.; Inoue, S.; Wada, K.; Kanke, Y.; Kurashima, K. J. Electrochem. Soc. 2005, 152, C42-C47.
17. Qin, D. H.; Cao, L.; Sun, Q. Y.; Huang, Y.; Li, H. L. Chem. Phys. Lett. 2002, 358, 484-488.
18. Piraux, L.; George, J. M.; Despres, J. F.; Leroy, C.; Ferain, E.; Legras, R.; Ounadjela, K.; Fert, A. Appl. Phys. Lett. 1994, 65, 2484-2486.
19. Liu, K.; Nagodawithana, K.; Searson, P. C.; Chien, C. L. Phys. Rev. B 1995, 51, 7381-7384.
20. Blondel, A.; Meier, J.; Doudin, B.; Ansermet, J. P.; Attenborough, K.; Evans, P.; Hart, R.; Nabiyouni, G.; Schwarzacher, W. J. Magn. Magn. Mater. 1995, 148, 317-318.
21. Chen, M.; Sun, L.; Bonevich, J. E.; Reich, D. H.; Chien, C. L.; Searson, P. C. Appl. Phys. Lett. 2003, 82, 3310-3312.
22. Wang, L.; YuZhang, K.; Metrot, A.; Bonhomme, P.; Troyon, M. Thin Solid Films 1996, 288, 86-89.
23. Evans, P. R.; Yi, G.; Schwarzacher, W. Appl. Phys. Lett. 2000, 76, 481-483.
24. Dubois, S.; Marchal, C.; Beuken, J. M.; Piraux, L.; Duvail, J. L.; Fert, A.; George, J. M.; Maurice, J. L. Appl. Phys. Lett. 1997, 70, 396-398.
25. Dubois, S.; Piraux, L.; George, J. M.; Ounadjela, K.; Duvail, J. L.; Fert, A. Phys. Rev. B 1999, 60, 477-484.
26. Maurice, J. L.; Imhoff, D.; Etienne, P.; Durand, O.; Dubois, S.; Piraux, L.; George, J. M.; Galtier, P.; Fert, A. J. Magn. Magn. Mater. 1998, 184, 1-18.
27. Nicewarner-Pena, S. R.; Freeman, R. G.; Reiss, B. D.; He, L.; Pena, D. J.; Walton, I. D.; Cromer, R.; Keating, C. D.; Natan, M. J. Science 2001, 294, 137-141.
28. Ji, C. X.; Oskam, G.; Ding, Y.; Erlebacher, J. D.; Wagner, A. J.; Searson, P. C. J. Electrochem. Soc. 2003, 150, C523-C528.
29. Jenkins, R.; Snyder, R. L. Introduction to X-ray powder Diffractometry, Wiley: New York, 1996.
30. Sun, L.; Chien, C. L.; Searson, P. C. Chem. Mater. 2004, 16, 3125-3129.
31. Chastain, J. C.; King, R. C. Handbook of Photoelectron Spectroscopy; Physical Electronics: Eden Prairie, MN, 1995.
32. Czanderna, A. W. Methods of surface analysis; Elsevier Scientific Pub. Co.: Amsterdam, 1975.
33. Yahalom, J.; Zadok, O. J. Mater. Sci. 1987, 22, 499-503.
34. Lashmore, D. S.; Dariel, M. P. J. Electrochem. Soc. 1988, 135, 1218-1221.
35. Tench, D. M.; White, J. T. J. Electrochem. Soc. 1990, 137, 3061-3066.
36. Toth-Kadar, E.; Peter, L.; Becsei, T.; Toth, J.; Pogany, L.; Tarnoczi, T.; Kamasa, P.; Bakonyi, I.; Lang, G.; Cziraki, A.; Schwarzacher, W. J. Electrochem. Soc. 2000, 147, 3311-3318.
37. Verma, S. K.; Wilman, H. J. Phys. D: Appl. Phys.1971, 4, 1167-1175.
38. O'Handley, R. C. Modern magnetic materials: principles and applications; Wiley: New York, 2000.