Magnetic properties of [formula omitted]-implanted silica films after post-implantation annealing

Journal of Applied Physics

Volumn 88, Issue 5, 2000, Pages 2745-2749

  Ding, Xing Zhao ^a,b,c   Tay, B K ^a   Shi, X ^a   Chiah, M F ^b   Cheung, W Y ^b   Wong, S P ^b   xu, J B ^b   Wilson, I H ^b  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

^b CHINESE UNIVERSITY OF HONG KONG   (Hong Kong)

^c NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

MAGNETIC DOMAINS; MAGNETIC PROPERTIES; MAGNETIC STRUCTURE; SATURATION MAGNETIZATION; SILICA;

ANNEALED SAMPLES; ANNEALING PROCESS; ANNEALING TIME; LOWER TEMPERATURES; MAGNETIC PARTICLE; MULTI-DOMAIN MAGNETIC STRUCTURES; POSTIMPLANTATION ANNEALING; SUPERPARAMAGNETIC EFFECT;

ANNEALING;

EID: 33644922472     PISSN: 00218979     EISSN: 10897550     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1287777     Document Type: Article

References (27)

1. S. Evoy, D. W. Carr, L. Sekaric, Y. Suzuki, J. R. Parpia, and H. G. Craighead, J. Appl. Phys. JAPIAU 87, 404 (2000).
2. S. Wirth, S. von Molnár, M. Field, and D. D. Awschalom, J. Appl. Phys. JAPIAU 85, 5249 (1999).
3. C. Haginoya, S. Heike, M. Ishibashi, K. Nakamura, K. Koike, T. Yoshimura, J. Yamamoto, and Y. Hirayama, J. Appl. Phys. JAPIAU 85, 8327 (1999).
4. S. Gangopadhyay, G. C. Hadjipanayis, S. I. Shah, C. M. Sorensen, K. J. Klabunde, V. Papaefthymiou, and A. Kostikas, J. Appl. Phys. JAPIAU 70, 5888 (1991).
5. C. P. Luo and D. J. Sellmyer, Appl. Phys. Lett. APPLAB 75, 3162 (1999).
6. L. Mei, W. H. Liu, K. Ho, B. M. Lairson, and F. B. Dunning, J. Magn. Magn. Mater. JMMMDC 187, 268 (1998).
7. X. Z. Ding, M. F. Chiah, W. Y. Cheung, S. P. Wong, J. B. Xu, I. H. Wilson, H. M. Wang, L. Z. Chen, and X.-H. Liu, J. Appl. Phys. JAPIAU 86 2550 (1999).
8. J. M. D. Coy, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 27, 1140 (1971).
9. J. G. Gay and R. Richter, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 56, 2728 (1986).
10. K. B. Urquhart, B. Heinrich, J. F. Cochran, A. S. Arrott, and K. Mytle, J. Appl. Phys. JAPIAU 64, 5334 (1988).
11. C. L. Fu, A. J. Freeman, and O. Oguchi, Phys. Rev. Lett. PRLTAO 54, 2700 (1985).
12. D. Weller, S. F. Alvarado, and M. Campagna, Physica B & C PHBCDQ 130, 72 (1985).
13. F. E. Luborsky, in Ferromagnetic Materials, edited by E. P. Wohlfarth (North Holland, Amsterdam, 1980), 453.
14. C. Y. Lin, K. C. Lee, and Y. D. Yao, Solid State Commun. SSCOA4 83, 371 (1992).
15. L. Zhang, G. C. Paraefthymiou, and J. Y. Ying, J. Appl. Phys. JAPIAU 81, 6892 (1997).
16. D. L. Mills and A. A. Maradudin, J. Phys. Chem. Solids JPCSAW 28, 1855 (1967)
17. D. L. Mills and A. A. Maradudin, J. Phys. Chem. Solids 30, 784(E) (1969).
18. T. Kobayashi, A. Nakanishi, K. Fukumura, and G. Langouche, J. Appl. Phys. JAPIAU 83, 4631 (1998).
19. G. Xiao and C. L. Chien, Appl. Phys. Lett. APPLAB 51, 1280 (1987)
20. S. H. Liu and C. L. Chien, Appl. Phys. Lett. 52, 512 (1988)
21. C. L. Chien, J. Appl. Phys. JAPIAU 69, 5267 (1991).
22. C. Chen, O. Kitakami, S. Okamoto, and Y. Shimada, J. Appl. Phys. JAPIAU 86, 2161 (1999)
23. C. Chen, O. Kitakami, and Y. Shimada, J. Appl. Phys. 84, 2184 (1998).
24. T. Hayashi, S. Hirono, M. Tomita, and S. Umemura, Nature (London) NATUAS 381, 772 (1996)
25. J. J. Delaunay, T. Hayashi, M. Tomita, S. Hirono, and S. Umemura, Appl. Phys. Lett. APPLAB 71, 3427 (1997).
26. A. Murayama, M. Miyamura, and S. Kondoh, J. Appl. Phys. JAPIAU 76, 5361 (1994).
27. Y. Gangopadhhyay, G. C. Hadjipanayis, B. Dale, C. M. Sorensen, K. J. Hhabunde, V. Papaefthymiou, and A. Kostikas, Phys. Rev. B PRBMDO 45, 9778 (1992).