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Volumn , Issue , 2003, Pages 247-250

Investigation of electron and hole mobilities in MOSFETs with TiN/HfO2/SiO2 gate stack

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GATE STACKS; MOSFETS;

EID: 33244481339     PISSN: 19308876     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: 10.1109/ESSDERC.2003.1256860     Document Type: Conference Paper
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References (10)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.