Photocurrent dynamics in a poly(phenylene vinylene)-based photorefractive composite

Physical Review B - Condensed Matter and Materials Physics

Volumn 69, Issue 12, 2004, Pages

  Kulikovsky, L ^a   Neher, D ^a   Mecher, E ^b   Meerholz, K ^b   Horhold H H ^c   Ostroverkhova, O ^d  

^a UNIVERSITY OF POTSDAM   (Germany)

^b UNIVERSITY OF COLOGNE   (Germany)

^c FRIEDRICH SCHILLER UNIVERSITY JENA   (Germany)

^d UNIVERSITY OF ALBERTA   (Canada)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPOLYMER; PHENYL GROUP; PHOTOSENSITIZING AGENT; VINYL DERIVATIVE;

ARTICLE; CALCULATION; CONDUCTANCE; DENSITY; DYNAMICS; HOLOGRAPHY; ILLUMINATION; LIGHT REFRACTION; MATERIALS; MATHEMATICAL ANALYSIS; PARAMETER; PHOTOSENSITIZATION; VELOCITY;

EID: 2342441687     PISSN: 10980121     EISSN: 1550235X     Source Type: Journal    
DOI: 10.1103/PhysRevB.69.125216     Document Type: Article

References (41)

1. L. Solymar, D. J. Webb, and A. Grunnet-Jepsen, The Physics and Applications of Photorefractive Materials (Clarendon Press, Oxford, 1996).
2. R. Jones, S. C. W. Hyde, M. J. Lynn, N. P. Barry, J. C. Dainty, W. French, K. M. Kwolek, D. D. Nolte, and M. R. Melloch: Appl. Phys. Lett.: 69, 1837 (1996).
3. B. Kippelen, S. R. Marder, E. Hendrickx, J. L. Maldonado, G. Guillemet, B. L. Volodin, D. D. Steele, Y. Enami, Sandalphon, Y. J. Yao, J. F. Wang, H. Rockel, L. Erskine, and N. Peyghambarian: Science: 279, 54 (1998).
4. D. Psaltis: Science: 298, 1359 (2002).
5. S. Ducharme, J. C. Scott, R. J. Twieg, and W. E. Moerner: Phys. Rev. Lett.: 66, 1846 (1991).
6. K. Meerholz, B. L. Volodin, Sandalphon, B. Kippelen, and N. Peyghambarian: Nature (London): 371, 497 (1994).
7. O. Zobel, M. Eckl, P. Strohriegl, and D. Haarer: Adv. Mater. (Weinheim, Ger.): 7, 911 (1995).
8. P. M. Lundquist, R. Wortmann, C. Geletneky, R. J. Twieg, M. Jurich, V. Y. Lee, C. R. Moylan, and D. M. Burland: Science: 274, 1182 (1996).
9. S. Schloter, U. Hofmann, P. Strohriegl, H. W. Schmidt, and D. Haarer: J. Opt. Soc. Am. B: 15, 2473 (1998).
10. F. Würthner, S. Yao, J. Schilling, R. Wortmann, M. Redi-Abshiro, E. Mecher, F. Gallego-Gomez, and K. Meerholz: J. Am. Chem. Soc.: 123, 2810 (2001).
11. L. Wang, M.-K. Ng, and L. Yu: Appl. Phys. Lett.: 78, 700 (2001).
12. C. Hohle, U. Hofmann, S. Schloter, M. Thelakkat, P. Strohriegl, D. Haarer, and S. J. Zilker: J. Mater. Chem.: 9, 2205 (1999).
13. K. Ogino, S. H. Park, and H. Sato: Appl. Phys. Lett.: 74, 3936 (1999).
14. O. Ostroverkhova, D. Wright, U. Gubler, W. E. Moerner, M. He, A. Sastre-Santos, and R. J. Twieg: Adv. Funct. Mater.: 12, 621 (2002).
15. E. Mecher, C. Bräuchle, H. H. Hörhold, J. C. Hummelen, and K. Meerholz: Phys. Chem. Chem. Phys.: 2, 1749 (1999).
16. U. Hofmann, A. Schreiber, D. Haarer, S. J. Zilker, A. Bacher, D. D. C. Bradley, M. Redecker, M. Inbasekaran, W. W. Wu, and E. P. Woo: Chem. Phys. Lett.: 311, 41 (1999).
17. W. You, L. Wang, Q. Wang, and L. Yu: Macromolecules: 35, 4636 (2002).
18. E. Mecher, F. Gallego-Gomez, H. Tillmann, H. H. Hörhold, J. C. Hummelen, and K. Meerholz: Nature (London): 418, 959 (2002).
19. H. H. Hörhold, H. Tillmann, D. Raabe, M. Helbig, W. Elflein, A. Bräuer, W. Holzer, and A. Penzkofer: Proc. SPIE: 4105, 431 (2001).
20. W. E. Moerner, S. M. Silence, F. Hache, and G. C. Bjorklund: J. Opt. Soc. Am. B: 11, 320 (1994).
21. S. M. Silence, G. C. Bjorklund, and W. E. Moerner: Opt. Lett.: 19, 1822 (1994).
22. E. Hendrickx, Y. D. Zhang, K. B. Ferrio, J. A. Herlocker, J. Anderson, N. R. Armstrong, E. A. Mash, A. P. Persoons, N. Peyghambarian, and B. Kippelen: J. Mater. Chem.: 9, 2251 (1999).
23. S. Schloter, A. Schreiber, M. Grasruck, A. Leopold, M. Kol’chenko, J. Pan, C. Hohle, and P. Strohriegl, S. J. Zilker, and D. Haarer: Appl. Phys. B: Lasers Opt.: 68, 899 (1999).
24. D. Van Steenwinckel, E. Hendrickx, A. Persoons, K. Van den Broeck, and C. Samyn: J. Chem. Phys.: 112, 11030 (2000).
25. O. Ostroverkhova and K. D. Singer: J. Appl. Phys.: 92, 1727 (2002).
26. N. V. Kukhtarev, V. B. Markov, S. G. Odulov, M. S. Soskin, and V. L. Vinetskii: Ferroelectrics: 22, 949 (1979).
27. J. S. Schildkraut and A. V. Buettner: J. Appl. Phys.: 72, 1888 (1992).
28. J. S. Schildkraut and Y. Cui: J. Appl. Phys.: 72, 5055 (1992).
29. D. Wright, M. A. Diaz-Garcia, J. D. Casperson, M. DeClue, W. E. Moerner, and R. J. Twieg: Appl. Phys. Lett.: 73, 1490 (1998).
30. Y. P. Cui, B. Swedek, N. Cheng, J. Zieba, and P. N. Prasad: J. Appl. Phys.: 85, 38 (1999).
31. D. J. Binks and D. P. West: J. Chem. Phys.: 115, 6760 (2001).
32. T. K. Däubler, A. Meisel, and V. Cimrova (private communication).
33. L. Holtmann: Phys. Status Solidi A: 113, K89 (1989).
34. J. A. Herlocker, C. Fuentes-Hernandez, K. B. Ferrio, E. Hendrickx, P. A. Blanche, N. Peyghambarian, B. Kippelen, Y. Zhang, J. F. Wang, and S. R. Marder: Appl. Phys. Lett.: 77, 2292 (2000).
35. R. Bittner, T. K. Däubler, D. Neher, and K. Meerholz: Adv. Mater. (Weinheim, Ger.): 11, 123 (1999).
36. T. K. Däubler, R. Bittner, K. Meerholz, V. Cimrova, and D. Neher: Phys. Rev. B: 61, 13 515 (2000).
37. F. Gallego and K. Meerholz (unpublished).
38. W.-J. Joo, N.-J. Kim, H. Chun, I. K. Moon, N. Kim, and C.-H. Oh: J. Appl. Phys.: 91, 6471 (2002).
39. P. Yeh: Appl. Opt.: 26, 602 (1987).
40. J. Wolff, S. Schloter, U. Hofmann, D. Haarer, and S. J. Zilker: J. Opt. Soc. Am. B: 16, 1080 (1999).
41. D. D. Steele, B. L. Volodin, O. Savina, B. Kippelen, N. Peyghambarian, H. Rockel, and S. R. Marder: Opt. Lett.: 23, 153 (1998).