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Volumn 188, Issue 1, 2001, Pages 463-466

Characterization of AlN/SiC Epitaxial Wafers Fabricated by Hydride Vapour Phase Epitaxy

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EID: 1942446317     PISSN: 00318965     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/1521-396X(200111)188:1<463::AID-PSSA463>3.0.CO;2-H     Document Type: Article
Times cited : (28)

References (14)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.