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Volumn 92, Issue 10, 2002, Pages 6275-6277

Reaction of diamond thin films with atomic oxygen simulated as low-earth-orbit environment

(11) Li, Jingqi a Zhang, Qing a Yoon, S F a Ahn, J a Zhou, Qiang a Wang, Sigen a Yang, Dajiang a Wang, Qiang a Li, Zhonghua b Wang, Jingyi b Lei, Qingsong b

a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY (Singapore)

b INSTITUTE OF GEOLOGY AND GEOPHYSICS (China)

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ATOMIC OXYGEN; CVD DIAMOND; DIAMOND SURFACES; DIAMOND THIN FILM; HOT-FILAMENT CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; LOW-EARTH ORBIT; MASS LOSS; PASSIVATION MATERIALS; REACTION EFFICIENCY;

CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DIAMOND FILMS; EROSION; ETHERS; OXYGEN; PHOTOELECTRONS; THIN FILMS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

ATOMS;

EID: 18744405070 PISSN: 00218979 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1063/1.1513211 Document Type: Article

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