Al nanocluster growth on Si(111) and Si(100) surfaces

Surface Science

Volumn 454, Issue 1, 2000, Pages 761-765

  Groger R ^a   Barczewski, M ^a   Von Blanckenhagen, P ^a  

^a KARLSRUHE INSTITUTE OF TECHNOLOGY   (Germany)

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ALUMINUM; CRYSTAL ORIENTATION; DEPOSITION; FILM GROWTH; MOLECULAR BEAM EPITAXY; NANOSTRUCTURED MATERIALS; SILICON; SUBSTRATES; SURFACE PHENOMENA; SURFACE STRUCTURE; THERMAL EFFECTS; THIN FILMS;

NANOCLUSTERS;

METALLIC FILMS;

EID: 17144459502     PISSN: 00396028     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0039-6028(00)00120-5     Document Type: Article

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