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Volumn 84, Issue 7, 1998, Pages 3636-3649

An atomistic simulator for thin film deposition in three dimensions

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EID: 11744309036     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.368539     Document Type: Article
Times cited : (215)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.