Study of the plasma of the reactive low voltage ion plating process;Untersuchung des Plasmas für das reaktive Niedervolt-Ionenplattieren

Vakuum in Forschung und Praxis

Volumn 12, Issue 1, 2000, Pages 25-28

  Strauss, G N ^b   Pulker, H K ^a  

^a UNIVERSITY OF INNSBRUCK   (Austria)

^b NONE

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EID: 0345848663     PISSN: 0947076X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/1522-2454(200002)12:1<25::aid-vipr25>3.0.co;2-v     Document Type: Article

References (4)

1. H. K. Pulker, J. Vac. Sci. Technol. A 10, p. 1669, (1992).
2. W. Lindinger, Pure Appl. Chem. 57, 1223, (1985).
3. G. N. Strauss, Nguyen Q. Danh, H. K. Pulker, J. Non-Cystalline Solids 218, p. 256 (1997).
4. J. Edlinger, Dissertation: "Reaktives Niederspannungs-Ionen-Plattieren", Institut für Experimentalphysik, Universität Innsbruck, (1990)