Patterning of silicon - Differences between nanosecond and femtosecond laser pulses

Applied Surface Science

Volumn 138-139, Issue 1-4, 1999, Pages 499-502

  Weingartner M ^a   Elschner, R ^a   Bostanjoglo, O ^a  

^a TECHNISCHE UNIVERSITÄT BERLIN   (Germany)

Author keywords

High speed techniques; Laser ablation; Photoelectron emission microscopy; Semiconductor microstructuring

Indexed keywords

EID: 0344390652     PISSN: 01694332     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0169-4332(98)00446-2     Document Type: Article

References (10)

1. Femtosenkunden Technologie, VDI-Technologiezentrum Physikalische Technologien, Düsseldorf, Germany, 1997.
2. J. Krüger, W. Kautek, Proc. SPIE 2403 (1995) 436.
3. S. Preuss, A. Demchuk, M. Stuke, Appl. Phys. Lett. A 61 (1995) 33.
4. B.N. Chichkov, C. Momma, S. Nolte, F. von Alvensleben, A. Tünnermann, Appl. Phys. A 63 (1996) 109.
5. O. Bostanjoglo, M. Weingärtner, Rev. Sci. Instrum. 68 (1997) 2456.
6. M. Weingärtner, O. Bostanjoglo, Surf. Coatings Technol. 100-101 (1998) 85.
7. R. Larciprete, E. Borsella, P. Cinti, Appl. Phys. A 62 (1996) 103.
8. P. Stampfli, K.H. Bennemann, Phys. Rev. B 46 (1992) 10686.
9. K. Sokolowski-Tinten, J. Bialkowski, H. Schüler, A. Cavalleri, M. Boing, D. von der Linde, in: C.R. Phipps (Ed.), SPIE Proc. 3343, June 1998.
10. D. von der Linde, Mater. Sci. Forum 173/174 (1995) 1.