The chemisorption of H2C[Si(CH3)3]2 and Si6(CH3)12 on Si(100) surfaces

Journal of Applied Physics

Volumn 82, Issue 7, 1997, Pages 3567-3571

  Sutherland, D G J ^a   Terminello, L J ^a   Carlisle, J A ^a   Jimenez I ^a   Himpsel, F J ^b   Baines, K M ^c   Shuh, D K ^d   Tong, W M ^d  

^a LAWRENCE LIVERMORE NATIONAL LABORATORY   (United States)

^b UNIVERSITY OF WISCONSIN MADISON   (United States)

^c UNIVERSITY OF WESTERN ONTARIO   (Canada)

^d LAWRENCE BERKELEY NATIONAL LABORATORY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0343820799     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.365759     Document Type: Article

References (34)

1. I. Golecki, F. Reidinger, and J. Marti, Appl. Phys. Lett. 60, 1703 (1992).
2. F. Capasso, Thin Solid Films 216, 59 (1992); K. Eberl, S. S. Iyer, J. C. Tsang, M. S. Goorsky, and F. K. Legoues; J. Vac. Sci. Technol. B 10, 934 (1992).
3. F. Capasso, Thin Solid Films 216, 59 (1992); K. Eberl, S. S. Iyer, J. C. Tsang, M. S. Goorsky, and F. K. Legoues; J. Vac. Sci. Technol. B 10, 934 (1992).
4. M. N. Yoder, Thin Solid Films 225, 145 (1993); J. J. Sumakeris, L. B. Rowland, R. S. Kern, S. Tanaka, and R. F. Davis, ibid. 225, 219 (1993); T. Fuyuki, T. Yoshinobu, and H. Matsunami, ibid. 225, 225 (1993); H. Nagasawa and Y. Yamaguchi, ibid. 225, 230 (1993); K. Kim, S.-D. Choi, and K. L. Wang, ibid. 225, 235 (1993); S. Hara, T. Meguro, Y. Aoyagi, M. Kawai, S. Misawa, E. Sakuma, and S. Yoshida, ibid. 225, 240 (1993).
5. M. N. Yoder, Thin Solid Films 225, 145 (1993); J. J. Sumakeris, L. B. Rowland, R. S. Kern, S. Tanaka, and R. F. Davis, ibid. 225, 219 (1993); T. Fuyuki, T. Yoshinobu, and H. Matsunami, ibid. 225, 225 (1993); H. Nagasawa and Y. Yamaguchi, ibid. 225, 230 (1993); K. Kim, S.-D. Choi, and K. L. Wang, ibid. 225, 235 (1993); S. Hara, T. Meguro, Y. Aoyagi, M. Kawai, S. Misawa, E. Sakuma, and S. Yoshida, ibid. 225, 240 (1993).
6. M. N. Yoder, Thin Solid Films 225, 145 (1993); J. J. Sumakeris, L. B. Rowland, R. S. Kern, S. Tanaka, and R. F. Davis, ibid. 225, 219 (1993); T. Fuyuki, T. Yoshinobu, and H. Matsunami, ibid. 225, 225 (1993); H. Nagasawa and Y. Yamaguchi, ibid. 225, 230 (1993); K. Kim, S.-D. Choi, and K. L. Wang, ibid. 225, 235 (1993); S. Hara, T. Meguro, Y. Aoyagi, M. Kawai, S. Misawa, E. Sakuma, and S. Yoshida, ibid. 225, 240 (1993).
7. M. N. Yoder, Thin Solid Films 225, 145 (1993); J. J. Sumakeris, L. B. Rowland, R. S. Kern, S. Tanaka, and R. F. Davis, ibid. 225, 219 (1993); T. Fuyuki, T. Yoshinobu, and H. Matsunami, ibid. 225, 225 (1993); H. Nagasawa and Y. Yamaguchi, ibid. 225, 230 (1993); K. Kim, S.-D. Choi, and K. L. Wang, ibid. 225, 235 (1993); S. Hara, T. Meguro, Y. Aoyagi, M. Kawai, S. Misawa, E. Sakuma, and S. Yoshida, ibid. 225, 240 (1993).
8. M. N. Yoder, Thin Solid Films 225, 145 (1993); J. J. Sumakeris, L. B. Rowland, R. S. Kern, S. Tanaka, and R. F. Davis, ibid. 225, 219 (1993); T. Fuyuki, T. Yoshinobu, and H. Matsunami, ibid. 225, 225 (1993); H. Nagasawa and Y. Yamaguchi, ibid. 225, 230 (1993); K. Kim, S.-D. Choi, and K. L. Wang, ibid. 225, 235 (1993); S. Hara, T. Meguro, Y. Aoyagi, M. Kawai, S. Misawa, E. Sakuma, and S. Yoshida, ibid. 225, 240 (1993).
9. M. N. Yoder, Thin Solid Films 225, 145 (1993); J. J. Sumakeris, L. B. Rowland, R. S. Kern, S. Tanaka, and R. F. Davis, ibid. 225, 219 (1993); T. Fuyuki, T. Yoshinobu, and H. Matsunami, ibid. 225, 225 (1993); H. Nagasawa and Y. Yamaguchi, ibid. 225, 230 (1993); K. Kim, S.-D. Choi, and K. L. Wang, ibid. 225, 235 (1993); S. Hara, T. Meguro, Y. Aoyagi, M. Kawai, S. Misawa, E. Sakuma, and S. Yoshida, ibid. 225, 240 (1993).
10. D. A. Lapiano-Smith, F. J. Himpsel, and L. J. Terminello, J. Appl. Phys. 74, 5842 (1993).
11. K.-L. Cheng, H.-C. Cheng, C.-C. Liu, C. Lee, and T.-R. Yew, Jpn. J. Appl. Phys. 1 34, 5527 (1995).
12. S. Nishino, H. Suhara, H. Ono, and H. Matsunami, J. Appl. Phys. 61, 4889 (1987); J. A. Powell, D. L. Larkin, L. G. Matus, W. J. Choyke, J. L. Bradshaw, L. Henderson, M. Yoganathan, J. Yang, and P. Pirouz, Appl. Phys. Lett. 56, 1442 (1990); O. Kordina, L.-O. Björketun, A. Henry, C. Hallin, R. C. Glass, L. Hultman, J.-E. Sundgren, and E. Janzén, J. Cryst. Growth 154, 303 (1995); Z. C. Feng, C. C. Tin, R. Hu, and J. Williams, Thin Solid Films 266, 1 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Jpn. J. Appl. Phys. 1 34, 1447 (1995); C. A. Zorman, A. J. Fleischman, A. S. Dewa, and M. Mehregany, J. Appl. Phys. 78, 5136 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Thin Solid Films 272, 4 (1996).
13. S. Nishino, H. Suhara, H. Ono, and H. Matsunami, J. Appl. Phys. 61, 4889 (1987); J. A. Powell, D. L. Larkin, L. G. Matus, W. J. Choyke, J. L. Bradshaw, L. Henderson, M. Yoganathan, J. Yang, and P. Pirouz, Appl. Phys. Lett. 56, 1442 (1990); O. Kordina, L.-O. Björketun, A. Henry, C. Hallin, R. C. Glass, L. Hultman, J.-E. Sundgren, and E. Janzén, J. Cryst. Growth 154, 303 (1995); Z. C. Feng, C. C. Tin, R. Hu, and J. Williams, Thin Solid Films 266, 1 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Jpn. J. Appl. Phys. 1 34, 1447 (1995); C. A. Zorman, A. J. Fleischman, A. S. Dewa, and M. Mehregany, J. Appl. Phys. 78, 5136 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Thin Solid Films 272, 4 (1996).
14. S. Nishino, H. Suhara, H. Ono, and H. Matsunami, J. Appl. Phys. 61, 4889 (1987); J. A. Powell, D. L. Larkin, L. G. Matus, W. J. Choyke, J. L. Bradshaw, L. Henderson, M. Yoganathan, J. Yang, and P. Pirouz, Appl. Phys. Lett. 56, 1442 (1990); O. Kordina, L.-O. Björketun, A. Henry, C. Hallin, R. C. Glass, L. Hultman, J.-E. Sundgren, and E. Janzén, J. Cryst. Growth 154, 303 (1995); Z. C. Feng, C. C. Tin, R. Hu, and J. Williams, Thin Solid Films 266, 1 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Jpn. J. Appl. Phys. 1 34, 1447 (1995); C. A. Zorman, A. J. Fleischman, A. S. Dewa, and M. Mehregany, J. Appl. Phys. 78, 5136 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Thin Solid Films 272, 4 (1996).
15. S. Nishino, H. Suhara, H. Ono, and H. Matsunami, J. Appl. Phys. 61, 4889 (1987); J. A. Powell, D. L. Larkin, L. G. Matus, W. J. Choyke, J. L. Bradshaw, L. Henderson, M. Yoganathan, J. Yang, and P. Pirouz, Appl. Phys. Lett. 56, 1442 (1990); O. Kordina, L.-O. Björketun, A. Henry, C. Hallin, R. C. Glass, L. Hultman, J.-E. Sundgren, and E. Janzén, J. Cryst. Growth 154, 303 (1995); Z. C. Feng, C. C. Tin, R. Hu, and J. Williams, Thin Solid Films 266, 1 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Jpn. J. Appl. Phys. 1 34, 1447 (1995); C. A. Zorman, A. J. Fleischman, A. S. Dewa, and M. Mehregany, J. Appl. Phys. 78, 5136 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Thin Solid Films 272, 4 (1996).
16. S. Nishino, H. Suhara, H. Ono, and H. Matsunami, J. Appl. Phys. 61, 4889 (1987); J. A. Powell, D. L. Larkin, L. G. Matus, W. J. Choyke, J. L. Bradshaw, L. Henderson, M. Yoganathan, J. Yang, and P. Pirouz, Appl. Phys. Lett. 56, 1442 (1990); O. Kordina, L.-O. Björketun, A. Henry, C. Hallin, R. C. Glass, L. Hultman, J.-E. Sundgren, and E. Janzén, J. Cryst. Growth 154, 303 (1995); Z. C. Feng, C. C. Tin, R. Hu, and J. Williams, Thin Solid Films 266, 1 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Jpn. J. Appl. Phys. 1 34, 1447 (1995); C. A. Zorman, A. J. Fleischman, A. S. Dewa, and M. Mehregany, J. Appl. Phys. 78, 5136 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Thin Solid Films 272, 4 (1996).
17. S. Nishino, H. Suhara, H. Ono, and H. Matsunami, J. Appl. Phys. 61, 4889 (1987); J. A. Powell, D. L. Larkin, L. G. Matus, W. J. Choyke, J. L. Bradshaw, L. Henderson, M. Yoganathan, J. Yang, and P. Pirouz, Appl. Phys. Lett. 56, 1442 (1990); O. Kordina, L.-O. Björketun, A. Henry, C. Hallin, R. C. Glass, L. Hultman, J.-E. Sundgren, and E. Janzén, J. Cryst. Growth 154, 303 (1995); Z. C. Feng, C. C. Tin, R. Hu, and J. Williams, Thin Solid Films 266, 1 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Jpn. J. Appl. Phys. 1 34, 1447 (1995); C. A. Zorman, A. J. Fleischman, A. S. Dewa, and M. Mehregany, J. Appl. Phys. 78, 5136 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Thin Solid Films 272, 4 (1996).
18. S. Nishino, H. Suhara, H. Ono, and H. Matsunami, J. Appl. Phys. 61, 4889 (1987); J. A. Powell, D. L. Larkin, L. G. Matus, W. J. Choyke, J. L. Bradshaw, L. Henderson, M. Yoganathan, J. Yang, and P. Pirouz, Appl. Phys. Lett. 56, 1442 (1990); O. Kordina, L.-O. Björketun, A. Henry, C. Hallin, R. C. Glass, L. Hultman, J.-E. Sundgren, and E. Janzén, J. Cryst. Growth 154, 303 (1995); Z. C. Feng, C. C. Tin, R. Hu, and J. Williams, Thin Solid Films 266, 1 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Jpn. J. Appl. Phys. 1 34, 1447 (1995); C. A. Zorman, A. J. Fleischman, A. S. Dewa, and M. Mehregany, J. Appl. Phys. 78, 5136 (1995); J.-D. Hwang, Y.-K. Fang, Y.-J. Song, and D.-N. Yaung, Thin Solid Films 272, 4 (1996).
19. J. H. Boo, K. S. Yu, and Y. Kim, Appl. Phys. Lett. 66, 3486 (1995).
20. A. J. Steckl, C. Yuan, and J. P. Li, Appl. Phys. Lett. 63, 3347 (1993).
21. A. K. Chaddha, J. D. Parsons, J. Wu, H.-S. Chen, D. A. Roberts, and H. Hockenhull, Appl. Phys. Lett. 62, 3097 (1993).
22. D.-J. Kim, D.-J. Choi, and Y.-W. Kim, Thin Solid Films 266, 192 (1995).
23. H.-T. Chiu and J.-S. Hsu, Thin Solid Films 252, 13 (1994).
24. C-W. Hu, A. Kasuya, S. Suto, A. Wawro, and Y. Nishina, J. Vac. Sci. Technol. B 14, 938 (1996).
25. M. R. Linford and C. E. D. Chidsey, J. Am. Chem. Soc. 115, 12 631 (1993); M. R. Linford, P. Fenter, P. M. Eisenberger, and C. E. D. Chidsey, ibid. 117, 3145 (1995).
26. M. R. Linford and C. E. D. Chidsey, J. Am. Chem. Soc. 115, 12 631 (1993); M. R. Linford, P. Fenter, P. M. Eisenberger, and C. E. D. Chidsey, ibid. 117, 3145 (1995).
27. S. Yajima, K. Okamura, and J. Hayashi, Chem. Lett. 2, 1209 (1975).
28. S. Yajima, J. Hayashi and M. Omori, Chem. Lett. 2, 931 (1975).
29. S. Yajima, Y. Hasegawa, J. Hayashi, and M. Iimura, J. Mater. Sci. 13, 2569 (1978).
30. Y. Hasegawa, M. Iimura, and S. Yajima, J. Mater. Sci. 15, 720 (1980).
31. R. West, L. F. Brough, and W. Wojnowski, Inorg. Synth. 19, 265 (1979).
32. F. Bozso, J. T. Yates, Jr., W. J. Choyke, and L. Muehlhoff, J. Appl. Phys. 57, 2771 (1985).
33. D. G. J. Sutherland, J. Z. Xiong, Z. Liu, T. K. Sham, G. M. Bancroft, K. M. Baines, and K. H. Tan, Organometallics 13, 3671 (1994).
34. S. V. Didziulis, J. R. Lince, P. D. Feischauer, and J. A. Yarmoff, Inorg. Chem. 30, 672 (1991).