Chemical vapor deposition of copper with a new metalorganic source

Applied Physics Letters

Volumn 68, Issue 7, 1996, Pages 1017-1019

  Choi, E S ^a   Park, S K ^a   Shin, H K ^a   Lee, Hong H ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0343783297     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.116214     Document Type: Article

References (16)

1. S. P. Murarka, R. K. Gutmann, A. E. Kaloyeros, and W. A. Lanford, Thin Solid Films INS 236, 257 (1993).
2. J. A. T. Norman, B. A. Muratore, P. N. Dyer, D. A. Roberts, A. K. Hochberg, and L. H. Dubois, Mater. Sci. Eng. B 17, 87 (1993).
3. A. Jain, T. T. Kodas, R. Jairath, and M. J. Hampden-Smith, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 11, 2107 (1993).
4. D. Temple and A. Reisman, J. Electrochem. Soc. INS 136, 3525 (1989).
5. D.-H. Kim, R. H. Wentorf, and W. N. Gill, J. Electrochem. Soc. INS 140, 3267 (1993).
6. D.-H. Kim, R. H. Wentorf, and W. N. Gill, J. Electrochem. Soc. INS 140, 3273 (1993).
7. J. Pelleteir, R. Pantel, J. C. Oberlin, Y. Pauleau, and P. Gouy-Pailler, J. Appl. Phys. AIP 70, 3862 (1991).
8. H. Li, E. T. Eisenbraun, and A. Kaloyeros, J. Vac. Sci. Technol. B AIP 10, 1337 (1992).
9. G. S. Girolami, P. M. Jaffries, and L. H. Dubois, J. Am. Chem. Soc. INS 115, 1015 (1993).
10. V. M. Donnelly and M. E. Gross, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 11, 66 (1993).
11. A. V. Gelatos, R. Marsh, M. Kottke, and C. J. Mogab, Appl. Phys. Lett. AIP 63, 2842 (1993).
12. A. Jain, K.-M. Chi, T. T. Kodas, and M. J. Hampden-Smith, J. Electrochem. Soc. INS 140, 1434 (1993).
13. S. K. Reynolds, C. J. Smart, E. F. Baran, T. H. Baum, C. E. Larson, and P. J. Brock, Appl. Phys. Lett. AIP 59, 2332 (1991).
14. S. L. Cohen, M. Liehr, and S. Kasi, J. Vac. Sci. Technol. A AIP 10, 863 (1992).
15. C. Roger, T. S. Corbitt, and M. J. Hampden-Smith, and T. T. Kodas, Appl. Phys. Lett. AIP 65, 1021 (1994).
16. T. H. Baum and C. E. Larson, J. Electrochem. Soc. INS 140, 154 (1993).