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1
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0001662762
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VCH Publishers, Weinheim
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B. W. Zulehner et al in: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Vol. A23, S. 721-748, VCH Publishers, Weinheim, 1993 sowie J. G. Wilkes et al in: Handbook of Semiconductor Technology, Volume 2 (Hrsg.: K. A. Jackson; W. Schröter), S. 1-66, Wiley-VCH, Weinheim, 2001.
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(1993)
Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry
, vol.A23
, pp. 721-748
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Zulehner, B.W.1
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2
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0043103581
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Hrsg.: K. A. Jackson; W. Schröter, Wiley-VCH, Weinheim
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B. W. Zulehner et al in: Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, Vol. A23, S. 721-748, VCH Publishers, Weinheim, 1993 sowie J. G. Wilkes et al in: Handbook of Semiconductor Technology, Volume 2 (Hrsg.: K. A. Jackson; W. Schröter), S. 1-66, Wiley-VCH, Weinheim, 2001.
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(2001)
Handbook of Semiconductor Technology
, vol.2
, pp. 1-66
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Wilkes, J.G.1
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4
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0042101779
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Deutsches Patent DE 11 02 117 B, 1954
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F. Bischoff, Deutsches Patent DE 11 02 117 B, 1954.
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Bischoff, F.1
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5
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0043103689
-
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Deutsches Patent DE 198 33 257 C1, 1999
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G. Wenski et al, Deutsches Patent DE 198 33 257 C1, 1999.
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Wenski, G.1
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6
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0043103690
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Deutsche Patente DE 199 05 373 C2, 2000
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siehe z. B. G. Wenski et al, Deutsche Patente DE 199 05 373 C2, 2000; DE 199 56 250 C1, 2001; DE 100 12 840 C2, 2001; DE 101 32 504 C1, 2002.
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Wenski, B.G.1
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7
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0041600824
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DE 199 56 250 C1, 2001
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siehe z. B. G. Wenski et al, Deutsche Patente DE 199 05 373 C2, 2000; DE 199 56 250 C1, 2001; DE 100 12 840 C2, 2001; DE 101 32 504 C1, 2002.
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8
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0043103692
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DE 100 12 840 C2, 2001
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siehe z. B. G. Wenski et al, Deutsche Patente DE 199 05 373 C2, 2000; DE 199 56 250 C1, 2001; DE 100 12 840 C2, 2001; DE 101 32 504 C1, 2002.
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9
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0042101777
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DE 101 32 504 C1, 2002
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siehe z. B. G. Wenski et al, Deutsche Patente DE 199 05 373 C2, 2000; DE 199 56 250 C1, 2001; DE 100 12 840 C2, 2001; DE 101 32 504 C1, 2002.
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13
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0042101772
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Hrsg: M. Heyns, M. Meuris, P. Mertens, Scitec Publications
-
M. Allesandri, E. Bellandi, F. Pipia, F. Cazzaniga, K. Wolke und M. Schenkl in: Ultra Clean Processing of Silion Surfaces (Hrsg: M. Heyns, M. Meuris, P. Mertens), S. 26-30, Scitec Publications, 1998.
-
(1998)
Ultra Clean Processing of Silion Surfaces
, pp. 26-30
-
-
Allesandri, M.1
Bellandi, E.2
Pipia, F.3
Cazzaniga, F.4
Wolke, K.5
Schenkl, M.6
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14
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0004165928
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Hrsg.: C.Y. Chang und S.M. Sze, McGraw-Hill
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P.-J. Wang in: ULSI Technology (Hrsg.: C.Y. Chang und S.M. Sze), S. 105-143, McGraw-Hill, 1996.
-
(1996)
ULSI Technology
, pp. 105-143
-
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Wang, P.-J.1
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16
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0035341932
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A. Segal, A. Galyukov, A. Kondratyev, A. Sid'ko, S. Karpov, Y. Makarov, W. Siebert und P. Storck, Microelectr. Eng. 2001, 56, 93.
-
(2001)
Microelectr. Eng.
, vol.56
, pp. 93
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-
Segal, A.1
Galyukov, A.2
Kondratyev, A.3
Sid'Ko, A.4
Karpov, S.5
Makarov, Y.6
Siebert, W.7
Storck, P.8
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