Effect of thermal annealing on optical emission properties of low-temperature grown AlGaAs/GaAs multiple quantum wells

Applied Physics Letters

Volumn 69, Issue 23, 1996, Pages 3513-3515

  Feng, W ^a   Chen, F ^a   Wang, W X ^a   Cheng, W Q ^a   Yu, Y ^a   Huang, Q ^a   Zhou, J M ^a  

^a INSTITUTE OF PHYSICS   (China)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0042108019     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.117229     Document Type: Article

References (23)

1. For reviews on this topic, see: M. R. Melloch, J. M. Woodall, E. S. Harmon, N. Otsuka, F. H. Pollak, D. D. Nolte, R. M. Feenstra, and M. A. Lutz, Annu. Rev. Mater. Sci. 25, 547 (1995); D. C. Look, Thin Solid Films 231, 61 (1993), and references therein.
2. For reviews on this topic, see: M. R. Melloch, J. M. Woodall, E. S. Harmon, N. Otsuka, F. H. Pollak, D. D. Nolte, R. M. Feenstra, and M. A. Lutz, Annu. Rev. Mater. Sci. 25, 547 (1995); D. C. Look, Thin Solid Films 231, 61 (1993), and references therein.
3. M. Kaminska, Z. Liliental-Weber, E. R. Weber, T. George, J. B. Kortright, F. W. Smith, B-Y. Tsaur, and A. R. Calawa, Appl. Phys. Lett. 54, 1881 (1989).
4. M. O. Manasreh, D. C. Look, K. R. Evans, and C. E. Stutz, Phys. Rev. B 41, 10 272 (1990).
5. D. C. Look, D. C. Walters, M. Mier, C. E. Stutz, and S. K. Brierly, Appl. Phys. Lett. 60, 2900 (1992).
6. F. W. Smith, A. R. Calawa, C. L. Chen, M. J. Manfra, and L. J. Mahoney, IEEE Electron Device Lett. EDL-9, 77 (1988).
7. R. E. Viturro, M. R. Melloch, and J. M. Woodall, Appl. Phys. Lett. 60, 3007 (1992).
8. S. Gupta, M. Y. Frankel, J. A. Valdmanis, J. F. Whitaker, F. W. Smith, and A. R. Calawa, Appl. Phys. Lett. 59, 3276 (1991).
9. M. R. Melloch, N. Otsuka, J. W. Woodall, A. C. Warren, and J. L. Freeouf, Appl. Phys. Lett. 57, 1531 (1990).
10. K. Mahalingam, N. Otsuka, M. R. Melloch, J. M. Woodall, and A. C. Warren, J. Vac. Sci. Technol. B 9, 2328 (1991).
11. Z. Liliental-Weber, H. J. Cheng, S. Gupta, J. Whitaker, K. Nichols, and F. W. Smith, J. Electron. Mater. 22, 1465 (1993).
12. J. P. Ibbetson, J. S. Speck, A. C. Gossard, and U. K. Mishra, Appl. Phys. Lett. 62, 169 (1993).
13. D. C. Look, J. Appl. Phys. 70, 3148 (1991).
14. A. C. Warren, J. M. Woodall, J. L. Freeouf, D. Grischkowsky, D. T. McInturff, M. R. Melloch, and N. Otsuka, Appl. Phys. Lett. 57, 1331 (1990).
15. D. C. Look, G. D. Robinson, J. R. Sizelove, and C. E. Stutz, Appl. Phys. Lett. 62, 3004 (1993).
16. I. Lahiri, D. D. Nolte, E. S. Harmon, M. R. Melloch, and J. M. Woodall, Appl. Phys. Lett. 66, 2519 (1995).
17. I. Lahiri, K. M. Kwolek, D. D. Nolte, and M. R. Melloch, Appl. Phys. Lett. 67, 1408 (1995).
18. W. Feng, Y. Yu, H. Chen, Q. Huang, and J. M. Zhou, Appl. Phys. Lett. 68, 812 (1996).
19. W. Feng, Z. G. Zhang, Y. Yu, Q. Huang, P. M. Fu, and J. M. Zhou, J. Appl. Phys. 79, 7404 (1996).
20. X. Liu, A. Prasad, W. M. Chen, A. Kurpiewski, A. Stoschek, Z. Liliental-Weber, and E. R. Weber, Appl. Phys. Lett. 65, 3002 (1994).
21. N. Hozhabri, S.-H. Lee, and K. Alavi, Appl. Phys. Lett. 66, 2456 (1995).
22. D. E. Bliss, W. Walukiewicz, J. W. Auger III, E. E. Haller, K. T. Chan, and S. Tanigawa, J. Appl. Phys. 71, 1699 (1992).
23. E. S. Harmon, J. M. Woodall, D. D. Nolte, N. Otsuka, and C. L. Chang, Appl. Phys. Lett. 63, 2248 (1993).