Plasmachemical oxidation processes - Part 3: New coating systems, less common substrates and their present & future applications;Plasmachemische oxidationsverfahren - Teil 3: Neue schichtsysteme, außergewöhnliche substratmaterialien und deren gegenwärtige und zukünftige anwendungsfelder

Galvanotechnik

Volumn 94, Issue 7, 2003, Pages 1634-1645+v

  Meyer, S ^a   Gorges, R ^a   Kreisel, G ^a  

^a FRIEDRICH SCHILLER UNIVERSITY JENA   (Germany)

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CATALYSTS; CHEMICAL REACTORS; EXHAUST GASES; OXIDATION; PHYSICAL VAPOR DEPOSITION; PLASMA APPLICATIONS; POROUS MATERIALS; SURFACE TREATMENT; TITANIUM OXIDES;

MICROREACTORS;

COATING TECHNIQUES;

EID: 0041307314     PISSN: 00164232     EISSN: None     Source Type: Trade Journal    
DOI: None     Document Type: Article

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