Asymmetric magnetization reversal in exchange-biased polycrystalline F/AF bilayers

Journal of Magnetism and Magnetic Materials

Volumn 262, Issue 2, 2003, Pages 294-301

  Spenato, D ^a   Pogossian, S P ^a   Le Gall, H ^a  

^a UNIVERSITÉ DE BRETAGNE OCCIDENTALE   (France)

Author keywords

Exchange bias; Magnetization reversal; Thin magnetic films

Indexed keywords

ANTIFERROMAGNETIC MATERIALS; MAGNETIC THIN FILMS; MAGNETIZATION; POLYCRYSTALLINE MATERIALS;

EXCHANGE BIAS;

FERROMAGNETIC MATERIALS;

EID: 0038813864     PISSN: 03048853     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0304-8853(02)01524-X     Document Type: Article

References (24)

1. Meiklejohn W.H., Bean C.P. Phys. Rev. 105:1957;904.
2. Mauri D., Siegmann H.C., Bagus P.S., Kay E. J. Appl. Phys. 62:1987;3047.
3. Koon N.C. Phys. Rev. Lett. 78:1997;4865.
4. Malozemoff A.P. Phys. Rev. B. 35:1987;3679.
5. Stiles M., McMichael R. Phys. Rev. B. 59:1999;3722.
6. Ambrose T., Sommer R.L., Chien C.L. Phys. Rev. B. 56:1997;83.
7. Cheng N., M. Krishnan K., Girt E., Farrow R.F.C., Marks R.F., Kellock A., Young A., Huan C.H.A. J. Appl. Phys. 87:2000;6647.
8. Kim J.-V., L. Stamps R., McGrath B.V., Camley R.E. Phys. Rev. B. 61:2000;8888.
9. J. Geshev, L.G. Pereira, J.E. Schmidt, Phys. Rev. B 64 (2001) 184411-1.
10. Xi H., White R.M. J. Appl. Phys. 86:1999;5169.
11. I.N. Krivorotov, C. Leighton, J. Nogués, I.K. Schuller, E.D. Dahlberg, Phys. Rev. B 65 (2002) 100402-1.
12. Tang Y.J., Roos B.F.P., Mewes T., Frank A.R., Rickart M., Bauer M., Demokritov S.O., Hillerbrands B., Zhou X., Liang B.Q., Chen X., Zhan W.S. Phys. Rev. B. 62:2000;8654.
13. Stamps R. J. Phys. D. 33:2000;R247.
14. M.D. Stiles, R.D. McMichael, Phys. Rev. B 63 (2001) 064405-1.
15. Spenato D., Ben Youssef J., Le Gall H., Ostoréro O. J. Appl. Phys. 89:2001;6898.
16. Nogués J., Schuller I.K. J. Magn. Magn. Mater. 192:1999;203.
17. Slonczewski J.C. Phys. Rev. Lett. 67:1991;3172.
18. Zhou S.M., Liu K., Chien C.L. Phys. Rev. B. 58:1998;R14717.
19. Chen M., Tsang C., Gharsallah N. IEEE Trans. Magn. 29:1993;4077.
20. Leighton C., Fitzsimmons M.R., Yashar P., Hoffmann A., Nogués J., Dura J., Majkrzak C.F., Schuller I.K. Phys. Rev. Lett. 86:2001;4394.
21. Mewes T., Nembach H., Rickart M., Demokritov S.O., Fassbender J., Hillebrands B. Phys. Rev. B. 65:2002;224423.
22. Riedling S., Bauer M., Mathieu C., Hillebrands B., Jungblut R., Kohlepp J., Reinders A. J. Appl. Phys. 85:1999;6648.
23. Liu C., Du J., Barnard J.A., Mankey G.J. J. Vac. Sci. Technol. A. 19(4):2001;1213.
24. Fulcomer E., Charap S.H. J. Appl. Phys. 43:1972;4190.