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Annales de Chimie: Science des Materiaux

Volumn 23, Issue 5-6, 1998, Pages 733-742

Microwave plasma assisted CVD in the Si-C-H-Ar system : Effect of process parameters;Dépôts par plasma CVD micro-onde à partir de mélanges tétraméthylsilane argon: Influence des paramètres expérimentaux

(5) Scordo, S a Ducarroir, M a Thomas, L a Berjoan, R b Jauberteau, J L c

a UNIVERSITÉ DE PERPIGNAN (France)

b Centre National de la Recherche Scientifique (France)

c L M C T S (France)

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EID: 0038775826 PISSN: 01519107 EISSN: None Source Type: Journal
DOI: 10.1016/s0151-9107(99)80020-8 Document Type: Article

Times cited : (4)

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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.