One-step formation of aligned carbon nanotube field emitters at 400 °C

Applied Physics Letters

Volumn 82, Issue 15, 2003, Pages 2485-2487

  Shiratori, Y ^a,d   Hiraoka, H ^a   Takeuchi, Y ^a   Itoh, S ^b   Yamamoto, M ^c  

^a Intl Center for Materials Research   (Japan)

^b Futaba Corporation   (Japan)

^c RITSUMEIKAN UNIVERSITY   (Japan)

^d FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CATALYSTS; CATHODES; FIELD EMISSION DISPLAYS; GLASS; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; POSITIVE IONS; TRIODES;

FIELD EMITTERS;

CARBON NANOTUBES;

EID: 0038665268     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1566803     Document Type: Article

References (16)

1. S. Iijima, Nature (London) 354, 56 (1991).
2. A. G. Rinzler, J. H. Hafner, P. Nikolnev, L. Lou, S. G. Kim, D. Tomanek, P. Nordlander, D. T. Colbert, and R. E. Smalley, Science 269, 1550 (1995).
3. W. A. de Heer, A. Châtelain, and D. Ugarte, Science 270, 1179 (1995).
4. Y. Saito, S. Uemura, and K. Hamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 37, 1,346 (1998).
5. C. G. Lee, S. J. Lee, S. Y. Whang, E. J. Choi, T. I. Yun, J. S. Lee, J. W. Kim, J. E. Jang, S. H. Cho, B. G. Lee, S. J. Lee, H. S. Han, S. H. Ahn, K. S. Ryu, K. W. Jung, J. H. Kang, S. H. Jin, S. K. Jo, J. H. Jung, J. S. Choi, T. S. Oh, S. K. Kang, and J. M. Kim, Proceedings of the Ninth International Display Workshops, 2002. pp. 1021-1024.
6. S. Uemura, J. Yotani, T. Nagasako, H. Kurachi, H. Yamuda, T. Ezaki, T. Maesoba, T. Nakao, Y. Saito, and M. Yumura, Proceedings of the Ninth International Display Workshops, 2002, pp. 1025-1028.
7. G. Pirio, P. Legagneux, D. Pribat, K. B. K. Teo, M. Chhowalla, G. A J. Amaratunga, and W. I. Milne, Nanotechnology 13, 1 (2002).
8. M. Sveningsson, R.-E. Morjan, O. A. Nerushev, Y. Sato, J. Bäckström, E. E. B. Campbell, and F. Rohmund, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process, 73, 409 (2001).
9. H. Terrones, T. Hayashi, M. M. Navia, M. Terrones, Y. A. Kim, N. Grobert, R. Kamalakaran, J. D. Davila, R. Eseudero, M. S. Dresselhaus, and M. Endo. Chem. Phys. Lett. 343, 241 (2001).
10. C. J. Lee, D. W. Kim, T. J. Lee, Y. C. Choi, Y. S. Park, Y. H. Lee, W. B. Choi, N. S. Lee, G.-S. Park, and J. M. Kim, Chem. Phys. Lett. 312, 461 (1999).
11. P. Atkins and J. de Paula, ATKINS Physical Chemistry, 7th ed. (Oxford University Press, New York, 2002), Data Section.
12. W. Zhang and Y. Catherine, Plasma Chem. Plasma Process, 11, 473 (1991).
13. N. Mutsukura, K. Kobayashi, and Y. Machi, J. Appl. Phys. 68, 2657 (1990).
14. H. Kang, S. R. Kasi, and J. W. Rabalais, J. Chem. Phys. 88, 5882 (1988).
15. R. T. Yang and J. P. Chen, J. Catal. 115, 52 (1989).
16. R. H. Fowler and L. W. Nordheim, Proc. R. Soc. London, Ser. A 119, 173 (1928).