Epitaxial growth of (103)-oriented ferroelectric SrBi2Ta2O9 thin films on Si(100)

Applied Physics Letters

Volumn 78, Issue 19, 2001, Pages 2922-2924

  Lee, Ho Nyung ^a   Senz, Stephan ^a   Pignolet, Alain ^a   Hesse, Dietrich ^a  

^a MAX PLANCK INSTITUTE OF MICROSTRUCTURE PHYSICS   (Germany)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0038564799     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1370984     Document Type: Article

References (16)

1. H. N. Lee, A. Visinoiu, S. Senz, C. Harnagea, A. Pignolet, D. Hesse, and U. Gösele, J. Appl. Phys. 88, 6658 (2000).
2. J. Lettieri, Y. Jia, M. Urbanik, C. I. Weber, J.-P. Maria, D. G. Schlom, H. Li, R. Ramesh, R. Uecker, and P. Reiche, Appl. Phys. Lett. 73, 2923 (1998); J. Lettieri, M. A. Zurbuchen, Y. Jia, D. G. Schlom, S. K. Streiffer, and M. E. Hawley, ibid. 76, 2937 (2000).
3. J. Lettieri, Y. Jia, M. Urbanik, C. I. Weber, J.-P. Maria, D. G. Schlom, H. Li, R. Ramesh, R. Uecker, and P. Reiche, Appl. Phys. Lett. 73, 2923 (1998); J. Lettieri, M. A. Zurbuchen, Y. Jia, D. G. Schlom, S. K. Streiffer, and M. E. Hawley, ibid. 76, 2937 (2000).
4. S. E. Moon, T. K. Song, S. B. Back, S.-I. Kwun, J.-G. Yoon, and J. S. Lee, Appl. Phys. Lett. 75, 2827 (1999).
5. K. Ishikawa and H. Funakubo, Appl. Phys. Lett. 75, 1970 (1999); K. Ishikawa, A. Saiki, and H. Funakubo, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 39, 2102 (2000).
6. K. Ishikawa and H. Funakubo, Appl. Phys. Lett. 75, 1970 (1999); K. Ishikawa, A. Saiki, and H. Funakubo, Jpn. J. Appl. Phys., Part 1 39, 2102 (2000).
7. T. Nagahama, T. Manabe, I. Yamaguchi, T. Kumagai, T. Tsuchiya, and S. Mizula, Thin Solid Films 353, 52 (1999).
8. R. E. Newnham, R. W. Wolfe, and J. F. Dorrian, Mater. Res. Bull. 6, 1029 (1971).
9. A. D. Rae, J. G. Thompson, and R. L. Withers, Acta Crystallogr. Sect. B: Struct. Sci. 48, 418 (1992).
10. H. N. Lee, S. Senz, A. Visinoiu, A. Pignolet, D. Hesse, and U. Gösele, Appl. Phys. A: Mater. Sci. Process. 71, 101 (2000).
11. H. N. Lee, S. Senz, N. D. Zakharov, C. Hamagea, A. Pignolet, D. Hesse, and U. Gösele, Appl. Phys. Lett. 77, 3260 (2000).
12. C. B. Eom, R. J. Cava, R. M. Fleming, J. M. Phillips, R. B. van Dover, J. H. Marshall, J. W. P. Hsu, J. J. Krajewski, and W. F. Peck, Jr., Science 258, 1766 (1992).
13. D. K. Fork, D. B. Fenner, G. A. N. Connell, J. M. Phillips, and T. H. Geballe, Appl. Phys. Lett. 57, 1137 (1990).
14. X. D. Wu, L. Luo, R. E. Muenchausen, K. N. Springer, and S. Foltyn, Appl. Phys. Lett. 60, 1381 (1992).
15. P. A. Stampe and R. J. Kennedy, J. Cryst. Growth 191, 472 (1998).
16. C. H. Lei, C. L. Jia, M. Siegert, J. Schubert, Ch. Buchal, and K. Urban, J. Cryst. Growth 204, 137 (1999).