Microstructural analysis of carbon films obtained from C 60 fullerene ion beams

Applied Surface Science

Volumn 211, Issue 1-4, 2003, Pages 379-385

  Huck, H ^a,b   Halac, E B ^a,c   Reinoso, M ^a,c   Dall'Asen A G ^a   Somoza, A ^d   Deng, W ^e   Brusa, R S ^e   Karwasz, G P ^e   Zecca, A ^e  

^a DEPARTAMENTO DE FÍSICA   (Argentina)

^b PONTIFICIA UNIVERSIDAD CATÓLICA ARGENTINA   (Argentina)

^c UNIVERSIDAD NACIONAL DE SAN MARTÍN   (Argentina)

^d UNIVERSIDAD NACIONAL DEL CENTRO DE LA PROVINCIA DE BUENOS AIRES   (Argentina)

^e UNIVERSITY OF TRENTO   (Italy)

Author keywords

C 60 fullerene; Ion beam deposition; Positron annihilation spectroscopy; Raman spectra; Thin film

Indexed keywords

ANNEALING; CHEMICAL BONDS; FULLERENES; ION BEAMS; MICROSTRUCTURE; POSITIVE IONS; POSITRON ANNIHILATION SPECTROSCOPY; RAMAN SPECTROSCOPY; SILICON;

CARBON FILMS;

THIN FILMS;

EID: 0038554369     PISSN: 01694332     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0169-4332(03)00276-9     Document Type: Article

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