메뉴 건너뛰기




Volumn 82, Issue 26, 2003, Pages 4636-4638

Dynamics of stimulated emission in silicon nanocrystals

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

AMPLIFICATION; ANNEALING; PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SILICON COMPOUNDS; STIMULATED EMISSION; THIN FILMS;

EID: 0038444804     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1586779     Document Type: Article
Times cited : (174)

References (26)
  • 11
    • 0000332037 scopus 로고    scopus 로고
    • F. Iacona, G. Franzò, and C. Spinella, J. Appl. Phys. 87, 1295 (2000); G. Vijaya Prakash, N. Daldosso, E. Degoli, F. Iacona, M. Cazzanelli, Z. Gaburro, G. Pucker, G. Dalba, F. Rocca, E. Ceretta-Moreira, G. Franzò, D. Pacifici, F. Priolo, C. Arcangeli, A. B. Filonov. S. Ossicini, and L. Pavesi, J. Nanosci. Nanotechnol. 1, 159 (2001).
    • (2000) J. Appl. Phys. , vol.87 , pp. 1295
    • Iacona, F.1    Franzò, G.2    Spinella, C.3
  • 21
    • 0038820116 scopus 로고    scopus 로고
    • N. Daldosso, G. Dalba, R. Grisenti, F. Rocca, L. Pavesi, F. Priolo, G. Franzò, and F. Iacona, Physica E (Amsterdam) 16, 321 (2003); M. Luppi and S. Ossicini, Phys. Status Solidi A 197, 251 (2003).
    • (2003) Phys. Status Solidi A , vol.197 , pp. 251
    • Luppi, M.1    Ossicini, S.2


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.