Magnetic behavior of amorphous CoP cylinder arrays

Journal of Applied Physics

Volumn 93, Issue 6, 2003, Pages 3440-3444

  Shima, M ^a,b   Hwang, M ^a   Ross, C A ^a  

^a Massachusetts Institute of Technology Cambridge   (United States)

^b RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COERCIVE FORCE; ELECTRODEPOSITION; MAGNETIC HYSTERESIS; MAGNETIC MOMENTS; REMANENCE; SQUIDS; X RAY DIFFRACTION ANALYSIS; X RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY;

NANOMAGNETS;

NANOSTRUCTURED MATERIALS;

EID: 0037444941     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1555835     Document Type: Article

References (30)

1. L. Piraux, S. Dubois, and J. L. Duvail, J. Mater. Res. 14, 304 (1999).
2. N. Tsuya, T. Tokushima, M. Shiraki, Y. Wakui, Y. Saito, H. Nakamura, S. Hayano, A. Furugori, and M. Tanaka, IEEE Trans. Magn. 22, 1140 (1986).
3. R. M. Metzger, V. V. Konovalov, M. Sun, T. Xu, G. Zangari, B. Xu, M. Benakli, and W. D. Doyle, IEEE Trans. Magn. 36, 30 (2000).
4. S. Y. Chou, M. Wei, P. R. Krauss, and P. B. Fisher, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3695 (1994).
5. S. Y. Chou, P. R. Krauss, and L. Kong, J. Appl. Phys. 79, 6101 (1996).
6. J. L. Duvail, S. Dubois, L. Piraux, A. Vaures, A. Fert, D. Adam, M. Champagne, F. Rousseaux, and D. Decanini, J. Appl. Phys. 84, 6359 (1998).
7. A. Garcia-Arribas, M. L. Fdez-Gubieda, and J. M. Barandiaran, Phys. Rev. B 61, 6238 (2000).
8. F. Stein and G. Dietz, J. Magn. Magn. Mater. 117, 45 (1992).
9. K. Huller, G. Dietz, R. Hausmann, and K. Kolpin, J. Magn. Magn. Mater. 53, 103 (1985); K. Huller and G. Dietz, ibid. 50, 250 (1985).
10. K. Huller, G. Dietz, R. Hausmann, and K. Kolpin, J. Magn. Magn. Mater. 53, 103 (1985); K. Huller and G. Dietz, ibid. 50, 250 (1985).
11. L. Li, J. Mater. Sci. Lett. 20, 1459 (2001).
12. R. W. Cochrane and G. S. Cargill III, Phys. Canada 29, 25 (1973).
13. R. W. Cochrane and G. S. Cargill III, Phys. Rev. Lett. 32, 476 (1974).
14. G. C. Chi and G. S. Cargill III, J. Appl. Phys. 50, 2713 (1979).
15. A. Brenner, D. E. Couch, and E. K. Williams, J. Res. Natl. Bur. Stand. 44, 109 (1950).
16. Y. Fukunaka, S. Aikawa, and Z. Asaki, J. Electrochem. Soc. 141, 1783 (1994).
17. A. Brenner, Electrodeposition of Alloys II (Academic, New York, 1963), p. 457.
18. M. Shima, M. Hwang, M. Farhoud, T. A. Savas, A. Tzacyk, J. U. C. Parrochon, W. Escoffier, H. I. Smith, C. A. Ross, and W. Schwarzacher, Proc.-Electrochem. Soc. PV-2000, 111 (2000).
19. C. A. Ross, M. Hwang, M. Shima, J. Y. Cheng, M. Farhoud, T. A. Savas, Henry I. Smith, W. Schwarzacher, F. M. Ross, M. Redjdal, and F. B. Humphrey, Phys. Rev. B 65, 144417 (2002).
20. M. A. Helfand, C. R. Clayton, R. B. Diegle, and N. R. Sorenson, J. Electrochem. Soc. 139, 2121 (1992).
21. G. D. Khattak, E. E. Khawaja, L. E. Wenger, D. J. Thompson, M. A. Salim, A. B. Hallak, and M. A. Daous, J. Non-Cryst. Solids 194, 1 (1996).
22. D. Pan and D. Turnbull, J. Appl. Phys. 45, 2406 (1974).
23. M. Nuding, P. Lamparter, and S. Steeb, Z. Naturforsch., A: Phys. Sci. 53a, 841 (1998).
24. H. Bestgen, in Rapidly Quenched Metals, edited by S. Steeb and H. Warlimont (Elsevier, New York, 1985), pp. 433-446.
25. R. Sonnberger, H. Bestgen, and G. Dietz, Z. Phys. B: Condens. Matter 56, 289 (1984).
26. M. Hwang, M. Farhoud, Y. Hao, M. Walsh, T. A. Savas, H. I. Smith, and C. A. Ross, IEEE Trans. Magn. 36, 3173 (2000).
27. K. Y. Guslienko, S.-B. Choe, and S.-C. Shin, Appl. Phys. Lett. 76, 3609 (2000).
28. R. L. Stamps and R. E. Camley, Phys. Rev. B 60, 11 694 (1999).
29. K. Y. Guslienko, Appl. Phys. Lett. 75, 394 (1999).
30. M. Hwang, M. Shima, C. A. Ross, C. Seberino, and H. N. Bertram, J. Appl. Phys. 92, 1018 (2002).