Properties of silver clusters adsorbed to silver bromide

Journal of Physical Chemistry B

Volumn 105, Issue 17, 2001, Pages 3577-3586

  Baetzold, R C ^a  

^a EASTMAN KODAK COMPANY   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

DENSITY FUNCTIONAL CALCULATION; ELECTRON AFFINITY; IONIZATION POTENTIAL; KINK SITE; SILVER BROMIDE; SILVER CLUSTERS;

ADSORPTION; ATOMS; BINDING ENERGY; CRYSTAL GROWTH; DEPOSITION; ELECTRON TRAPS; ELECTRONIC STRUCTURE; IONIZATION; PHOTOLYSIS; QUANTUM THEORY; SUBSTITUTION REACTIONS;

SILVER COMPOUNDS;

EID: 0037013381     PISSN: 15206106     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/jp003860a     Document Type: Article

References (65)

1. Brady, L. E.; Hamilton, J. F. J. Appl. Phys. 1966, 37, 2268.
2. Eachus, R. S.; Olm, M. T.; Janes, R.; Symons, M. R. C. Phys. Status Solid! B 1989, 752, 583.
3. (a) Deri, R. J.; Spoonhower, J. P.; Hamilton, J. F. J. Appl. Phys. 1985,57, 1968.
4. (b) Deri, R. J.; Spoonhower, J. P. J. Appl. Phys. 1985,57, 2806.
5. Eachus, R. S.; Marchetti, A. P.; Muenter, A. A. Annu. Reu. Phys. Chem. 1999,50, 117.
6. (a) James, T. H. In Tlie Theory of the Photographic Process, 4th ed.; Mcmillan: New York, 1977.
7. (b) Tani, T. Photographic Sensitivity; Oxford University Press: New York, 1995.
8. (a) Hamilton, J. F.; Logel, P. C. Photogr. Sci. Eng. 1974,18, 507.
9. (b) Fayet, P.; Granzer, F.; Hegenbart, G.; Moisar, E.; Pischel, B.; Woste, L. Phys. Rev. Lett. 1985, 55, 3002.
10. (a) Baetzold, R. C. Photogr. Sci. Eng. 1975,19, 11.
11. (b) Baetzold, R. C. J. Phys. Chem. B 1997, 101, 8180.
12. Hamilton, J. F.; Baetzold, R. C. Photogr. Sci. Eng. 1981, 25, 189.
13. (a) Gurney, R. W.; Mott, N. F. Proc. R. Soc. London 1938, A164, 151.
14. (b) Mott, N. F.; Gumey, R. W. Electronic Processes in Ionic Crystals; Clarendon: Oxford, U.K., 1948.
15. Hamilton, J. F. Adv. Phys. 1988, 37, 359.
16. Hailstone, R. K. J. Phys. Chem. 1995, B99, 4414.
17. Mitchell, J. W. J. Imaging Sci. Technol. 1995, 39, 193.
18. Webb, J. H. J. Opt. Soc. Am. 1933, 23, 157.
19. Spencer, H. E.; Brady, L. E.; Hamilton, J. F. J. Opt. Soc. Am. 1967, 57, 1020.
20. Spencer, H. E. Photogr. Sci. 'Eng. 1967, 11, 352.
21. Spencer, H. E. J. Photogr. Sci. 1972, 20, 143.
22. Moisar, E.; Granzer, F.; Dantrich, D.; Palm, E. J. Photogr. Sci. 1977, 25, 12.
23. Moisar, E.; Granzer, F.; Dantrich, D.; Palm, E. J. Photogr. Sci. 1980, 28, 71.
24. Tani, T. Photogr. Sci. Eng. 1971, 75, 28.
25. Tani, T. Photogr. Sci. Eng. 1971, 75, 181.
26. Tani, T.; Murofushi, M. J. Imaging Sci. Technol. 1994, 38, 1.
27. Guo, S.; Hailstone, R. K. J. Imaging Sci. Technol. 1996, 40, 210.
28. Tani, T. J. Imaging Sci. Technol. 1997, 41, 577.
29. Tani, T. J. J. Imaging Sci. Technol. 1998, 42, 577.
30. Tani, T.; Tasaka, T.; Murofushi, M.; Hosoi, K.; Hirano, A. J. Imaging Sci. Technol. 1999, 47, 1.
31. Oku, Y.; Kawasaki, M. J. Phys. Chem. B 1998, 702, 9061.
32. Marchetti, A. P.; Muenter, A. A.; Baetzold, R. C.; McCleary, R. T. J. Phys. Chem. B 1998, 702, 5287.
33. Bonacic-Koutecky, V.; Cespiva, L.; Fantucci, P.; Koutecky, J. J. Chem. Phys. 1993, 98, 7981.
34. (a) Becke, A. D. Phys. Rev. 1988, A33, 3098.
35. (b) Lee, C.; Wang, W.; Parr, R. G. Phys: Rev. 1988, B37, 785.
36. Johnson, B. G.; Gill, P. M.; Pople, J. A. J. Chem. Phys. 1993, 95, 5612.
37. Frisch, M. J.; Trucks, G. W.; Schlegel, H. B.; Scuseria, G. E.; Robb, M. A.; Cheesman, J. R.; Zakrzewski, V. G.; Montgomery, J. A.; Stratmann, R. E.; Burant, J. C; Dapprich, S.; Millam, J. M.; Daniels, A. D.; Kudin, K. N.; Strain, M. C.; Farkas, O.; Tomasi, J.; Barone, V.; Cossi, M.; Cammi, R.; Mennucci, B.; Pomelli, C.; Adamo, C.; Clifford, S.; Ochterski, J.; Petersson, G. A.; Ayala, P. Y.; Cui, Q.; Morakuma, K.; Malick, D. K.; Rabuck, A. D.; Raghavachari, K.; Foresman, J. B.; Cioslowski, J.; Ortiz, J. V.; Stefanov, B. B.; Lui, G.; Liashenko, A.; Piskorz, P.; Komaromi, L; Gomperts, R.; Martin, R. L.; Fox, D. J.; Keith, T.; Al-Laham, M. A.; Peng, C. Y.; Nanayakkara, A.; Gonzalez, C.; Challacombe, M.; Gill, P. M. W.; Johnson, B. G.; Chen, W.; Wong, M. W. Andres, J. L.; Head-Gordon, M.; Replogle, E. S.; Pople, J. A. Gaussian 98 (Revision A.7); Gaussian, Inc.: Pittsburgh, PA, 1998.
38. Tasker, P. W. Philos. Mag. 1979, 39, 19.
39. Catlow, C. R. A.; Corish, J.; Harding, J. H.; Jacobs, P. W. M. Philos. Mag. 1987,A55,48l.
40. Sushko, P. V.; Shluger, A. L.; Catlow, C. R. A. Surf. Sci. 2000, 450, 153.
41. Sushko, P. V.; Shluger, A. L.; Baetzold, R. C.; Catlow, C. R. A. J. Phys. C: Condens. Matter 2000, 72, 8257.
42. (a) Hay, P. J.; Wadt, W. R. J. Chem. Phys. 1985,82, 270.
43. (b) Wadt, W. R.; Hay, P. J. J. Chem. Phys. 1985, 52, 284.
44. Hay, P. J.; Wadt, W. R. J. Chem. Phys. 1985, 52, 299.
45. (a) Victora, R. H. Phys. Rev. 1997, B56, 4417.
46. (b) Kunz, A. B. Phys. Rev. 1982, B26, 2070.
47. Ehlers, A. W.; Bohme, M.; Dapprich, S.; Goffi, A.; Hollwarth, A.; Jonas, V.; Kohler, K. F.; Stegmann, R.; Veldkamp, A.; Frenking, G. Chem. Phys. Lett. 1993,208, 111.
48. Brown, F. C. The Physics of Solids; Benjamin: New York, 1967.
49. Hamilton, J. F. J. Imaging Sci. 1990, 34, I.
50. Baetzold, R. C.; Hamilton, J. F. Surf. Sci. 1987, 779, L85.
51. Baetzold, R. C. Phys. Rev. 1995, B52, 11424.
52. Balasubramanan, K. 7. Mol. Struct. (THEOCHEM) 1989,202, 291.
53. Bauschlicher, C. W., Jr.; Langhoff, S. R.; Partridge, H. J. Chem. Phys. 1990, 93, 8133.
54. Santamaria, R.; Kaplan, I. G.; Novaro, O. Chem. Phys. Lett. 1994, 218, 395.
55. Poteau, R.; Heully, J.-L.; Spagelman, F. Z Phys. D 1977, 40, 479.
56. Garzon, I. L.; Kaplan, I. G.; Santamaria, R.; Novaro, O. J. Chem. Phys. 1998, 709, 2176.
57. Kaplan, I. G.; Santamaria, R.; Novaro, O. Mol. Phys. 1995, S4, 105.
58. (a) Mitchell, J. W. J. Photogr. Sci. 1996, 44, 82.
59. (b) Mitchell, J. W. Photogr. Sci. Eng. 1978, 22, I.
60. Mitchell, J. W. Phologr. Sci. Eng. 1979, 23, 1.
61. Kanzaki, H.; Tadakuma, Y. J. Phys. Chem. Sol. 1997, 58, 221;
62. Kanzaki, H.; Tadakuma, Y. J. Phys. Chem. Sol. 1994, 55, 631.
63. Kellogg, L. M. Photogr. Sci. Eng. 1974, 18, 378.
64. Hamilton, J. F.; Harbison, J. M.; Jeanmaire, D. L. J. Imaging Sci. 1988, 32, 17.
65. Phillips, J. C. Bonds and Bands in Semiconductors', Academic Press: New York, 1973.