Chemically vapor deposited diamond film ultraviolet thermoluminescence dosimeter

Materials Letters

Volumn 56, Issue 1-2, 2002, Pages 80-84

  Gan, B ^a   Ahn, J ^a   Zhang, Q ^a   Yoon, S F ^a   Melendrez R ^b   Barboza Flores, M ^b  

^a NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY   (Singapore)

^b UNIVERSIDAD DE SONORA   (Mexico)

Author keywords

CVD diamond; Diamond films; Radiation damage; Thermoluminescence; UV detectors; UV dosimetry; UV radiation effects

Indexed keywords

ANNEALING; CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; DOSIMETERS; PHOTODETECTORS; RADIATION DAMAGE; THERMOLUMINESCENCE; THICK FILMS; ULTRAVIOLET DETECTORS;

BROAD EMISSION BANDS;

DIAMOND FILMS;

EID: 0036741131     PISSN: 0167577X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0167-577X(02)00422-6     Document Type: Article

References (21)

1. Werner M., Locher R. Rep. Prog. Phys. 61:1998;1665.
2. Furetta C., Kitis G., Brambilla A., Jany C., Bergonzo P., Foulon F. Radiat. Prot. Dosim. 84:1999;201.
3. Borchi E., Furetta C., Kitis G., Leroy C., Sussmann R.S., Whitehead A.J. Radiat. Prot. Dosim. 65:1996;291.
4. Borchi E., Bruzzi M., Bucciolini M., Guasti A., Mazzocchi S., Pirollo S., Sciortino S. Nucl. Instrum. Methods, Sect. A. 426:1999;181.
5. Benabdesselman M., Iacconi P., Briand D., Lapraz D., Butler J.E. Radiat. Prot. Dosim. 84:1999;257.
6. Tromson D., Bergonzo P., Brambilla A., Mer C., Foulon F. J. Appl. Phys. 87:2000;3360.
7. Apátiga L.M., Golzarri J.I., Mumford J., Alba F., Castaño V.M. Radiat. Phys. Chem. 54:1999;223.
8. Vittone E., Manfredotti C., Fizzotti F., Lo Giudice A., Polsello P., Ralchenko V. Diamond Relat. Mater. 8:1999;1234.
9. Fiegl B., Kuhnert R., Ben-Corin M., Koch F. Appl. Phys. Lett. 65:1994;371.
10. Yoneda H., Ueda K., Aikawa Y., Baba K., Shohata N. J. Appl. Phys. 83:1998;1730.
11. Plano M., Zhao S., Gardinier C.F., Landstrass M.I., Kania D.R., Kagan H., Gan K.K., Kass R., Pan L.S., Han S., Schnetzer S., Stone R. Appl. Phys. Lett. 64:1994;193.
12. Muñoz J.A., Cussó F., Aguirre De Cárcer I., Jaque F., Muñiz J.L., Delgado A., Castañeda B., Barboza-Flores M., Pérez-Salas R., Aceves R., Pashchenko L.P. Appl. Phys. Lett. 70:1997;1674.
13. Pérez Salas R., Aceves R., Meléndrez R., Barboza-Flores M. Appl. Phys. Lett. 63:1993;894.
14. Córdoba C., Muñoz J.A., Cachorro V., Aguirre de Cárcer I., Cussó F., Jaque F. J. Phys. D: Appl. Phys. 30:1997;3024.
15. Justus B.L., Huston A.L. Appl. Phys. Lett. 67:1995;1179.
16. Mumford J.W., Apátiga L.M., Golzarri J.I., Castaño V.M. Mater. Lett. 37:1998;330.
17. Apátiga L.M., Castaño V.M., Golzarri J.I., Garća J.M., Alba F. Mater. Res. Innovations. 3:1999;156.
18. Apátiga L.M., Castaño V.M., Alba F. J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 9:1988;473.
19. Bizzarri A., Bogani F., Bruzzi M., Sciortino S. Nucl. Instrum. Methods, Sect. A. 426:1999;169.
20. Mainwood A. Semicond. Sci. Technol. 15:2000;R55.
21. Binari S.C., Marckywka M., Koolbeck D.A., Dietrich H.B., Moses D. Diamond Relat. Mater. 2:1993;1020.