Structural and electrochemical properties of thin layers of V2O2 prepared by atomic layer chemical vapor deposition (ALCVD);Propriétés structurales et électrochimiques de couches minces de V2O5 élaborées par dépôt chimique de couches atomiques en phase vapeur (ALCVD)

Journal De Physique. IV : JP

Volumn 12, Issue 2, 2002, Pages

  Mantoux, A ^a   Badot, J C ^a   Baffier, N ^a   Farcy, J ^a   Pereira Ramos, J P ^a   Lincot, D ^a   Groult, H ^a  

^a UMR 7612   (France)

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CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; CRYSTALLOGRAPHY; ELECTROCHEMISTRY; INTERFACES (MATERIALS); TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

ELECTROCHEMICAL MEASUREMENTS;

VANADIUM COMPOUNDS;

EID: 0036416442     PISSN: 11554339     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (6)

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