Two-component photoresists containing thermally crosslinkable photoacid generators

Polymer Engineering and Science

Volumn 40, Issue 5, 2000, Pages 1248-1255

  Moon, Seong Yun ^a,c   Chung, Chan Moon ^b  

^a Samsung Advanced Institute of Technology (SAIT)   (South Korea)

^b Yonsei University Wonju   (South Korea)

^c TAKASAKI ADVANCED RADIATION RESEARCH INSTITUTE   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CROSSLINKING; LITHOGRAPHY; PLASTIC FILMS; POLYSTYRENES; SOLUBILITY; SYNTHESIS (CHEMICAL); TEMPERATURE;

PHOTOACID GENERATOR; POLYHYDROXYSTYRENE;

PHOTORESISTS;

EID: 0033738520     PISSN: 00323888     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1002/pen.11252     Document Type: Article

References (24)

1. J. V. Crivello and J. H. W. Lam, Macromolecules, 10, 1307 (1977).
2. J. V. Crivello and J. H. W. Lam, J. Polym. Sci, Polym. Chem. Ed., 17, 977 (1979).
3. J. V. Crivello and J. H. W. Lam, J. Org. Chem., 43, 3055 (1978).
4. T. Yamaoka, M. Nishiki, and K. Koseki, Polym. Eng. Sci., 29, 856 (1989).
5. N. Hayashi, T. Ueno, M. Hesp, M. Toriumi, and T. Iwayanagi, Polymer, 33, 1583 (1992).
6. H. Ito and M. Ueda, Macromolecules, 23, 2885 (1990).
7. J. M. J. Frechet, E. Eichler, H. Ito, and C. G. Willson, Polymer, 24, 995 (1983).
8. J. M. J. Frechet, T. G. Tessier, C. G. Willson, and H. Ito, Macromolecules, 18, 317 (1985).
9. C. G. Willson, H. Ito, J. M. J. Frechet, T. G. Tessier, and F. M. Houlihan, J. Electrochem. Soc., 133, 181 (1986).
10. J. M. J. Frechet, F. Bouchard, E. Eichler, F. M. Houlihan, T. Iizawa, B. Kryczka, and C. G. Willson, Polym. J., 19, 31 (1987).
11. H. Ito, M. Ueda, and R. Schwalm, J. Vac. Sci. Technol., B6 (6), 2259 (1988).
12. J. M. J. Frechet, F. M. Houlihan, and C. G. Willson, Proc. ACS Div. Polym. Mater. Sci. Eng., 53, 268 (1985).
13. F. M. Houlihan, F. Bouchard, J. M. J. Frechet, and C. G. Willson, Maocromolecules, 19, 13 (1986).
14. J. M. J. Frechet, S. Matuszczak, B. Reck, T. G. Tessier, H. D. H. Stover, and C. G. Willson, Macromolecules, 24, 1746 (1991).
15. B. Reck, R. D. Allen, R. J. Twieg, C. G. Willson, S. Matuszczak, N. H. Li, and J. M. J. Frechet, Polym. Eng. Sci., 29, 960 (1989).
16. J. W. Thackeray, G. W. Orsula, M. M. Rajaratnam, R. Sinta, and D. Herr, Proc. SPIE., 1466, 39 (1991).
17. J. T. Fahey, K. Shimizu, J. M. J. Frechet, N. Clecak, and C. G. Willson, J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed., 31, 1 (1993).
18. E. Reichmanis, F. M. Houlihan, O. Nalamasu, and T. X. Neenan, Chem. Mater., 3, 394 (1991).
19. J. L. Dektar and N. P. Hacker, J. Am. Chem. Soc., 112, 6004 (1990).
20. R. D. Miller, A. F. Renaldo, and H. Ito, J. Org. Chem., 53, 5571 (1988).
21. D. R. Mckean, U. P. Schaedeli, P. H. Kasai, and S. A. Macdonald, J. Polym. Sci. Polym. Chem. Ed., 29, 309 (1991).
22. S. Moon, K. Naitoh, and T. Yamaoka, Chem. Mater., 5, 1315 (1993).
23. S. Moon, K. Kamenosono, S. Kondo, A. Umehara, and T. Yamaoka, Chem. Mater., 6, 1854 (1994).
24. S.-Y. Moon, C.-M. Chung, and T. Yamaoka, Polymer, 41, 4013 (2000).