Aligned carbon nanotubes via microwave plasma enhanced chemical vapor deposition

Materials Research Society Symposium - Proceedings

Volumn 593, Issue , 2000, Pages 39-44

  Cui, H ^a   Palmer, D ^b   Zhou, O ^a   Stoner, B R ^a  

^a UNIVERSITY OF NORTH CAROLINA   (United States)

^b MCNC   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CARBON NANOTUBES; MICROWAVE PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION; SILICON SUBSTRATES;

CARBON; COMPOSITION; GROWTH (MATERIALS); MATHEMATICAL MODELS; MIXTURES; MORPHOLOGY; NUCLEATION; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SUBSTRATES; TEMPERATURE; TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPY;

NANOTUBES;

EID: 0033702762     PISSN: 02729172     EISSN: None     Source Type: Conference Proceeding    
DOI: None     Document Type: Conference Paper

References (15)

1. S. Iijima, Nature 354, 56(1991)
2. M. S. Dresselhaus, Nature 358, 195(1992)
3. A. G. Rinzler, J. H. Hafner, P. Nikolaev, L. Lou, S. G. Kim, D. Tomanek, P. Nordlander, D. T. Colbert, R. E. Smalley, Science 269, 1550(1995)
4. A. C. Dillon, K. M. Jones, T. A. Bekkedahl, C. H. Kiang, D. S. Bethune, M. J. Heben, Nature 386, 377(1997)
5. C. Niu, E. K. Sichel, R. Hoch, D. Moy, H. Tennent, Appl. Phys. Lett. 70, 1480(1997)
6. S. J. Tans, A. R. M. Verschueren, C. Dekker, Nature 393, 49(1998)
7. Y. Saito, S. Uemura, K. Hamaguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 37, L346(1998)
8. Q. H. Wang, T. D. Corrigan, J. Y. Dai, R. P. H. Chang, A. R. Krauss, Appl. Phys. Lett. 70, 3308 (1997)
9. W. Zhu, C. Bower, O. Zhou, G. Kochanski, S. Jin, Appl. Phys. Lett 75, 873 (1999)
10. C. Liu, Y. Y. Fan, M. Liu, H. T. Cong, H. M. Cheng, M. S. Dresselhaus, Science 286, 1127(1999)
11. W. Z. Li, S. S. Xie, L. X. Qian, B. H. Chang, B. S. Zou, W. Y. Zhou, R. A. Zhao, G. Wang, Science 274, 1701(1996)
12. M. Terrones, N. Grobert, J. Olivares, J. P. Zhang, H. Terrones, K. Kordatos, W. K. Hsu, J. P. Hare, P. D. Townsend, K. Prassides, A. K. Cheetham, H. W. Kroto, D. R. M. Walton, Nature 388, 52(1997)
13. Z. P. Huang, J. W. Xu, Z. F. Ren, J. H. Wang, M. P. Siegal, P. N. Provencio, Appl. Phys. Lett, 73, 3845(1998)
14. S. Fan, M. G. Chapline, N. R. Franklin, T. W. Tombler, A. M. Cassell, H. Dai, Science 283, 512(1999)
15. Z. F. Ren, Z. P. Huang, J. W. Xu, J. H. Wang, P. Bush, M. P. Siegal, P. N. Provencio, Science 282, 1105(1998)