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Volumn 169, Issue 1-4, 2000, Pages 21-25

TiO2-x films prepared by ion beam assisted deposition

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Annealing; IBAD; Raman; RBS; Titanium dioxide; XPS; XRD

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EID: 0033691687     PISSN: 0168583X     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0168-583X(00)00010-0     Document Type: Article
Times cited : (30)

References (19)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.