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Volumn 54, Issue 32, 1998, Pages 9273-9280

Reactivity of perfluoro-n-alkyl radicals with reluctant substrates. Rates of addition to R(F)CH2CH=CH2 and R(F)CH=CH2

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DECANE; PERFLUORO COMPOUND; RADICAL;

EID: 0032490923     PISSN: 00404020     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1016/S0040-4020(98)00568-7     Document Type: Article
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    • 12. We thank a referee of an earlier paper in this series for causing us to examine more closely the problem of non-zero intercepts.


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.