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Volumn 16, Issue 2, 1998, Pages 587-589

The retardation of aluminum-amorphous silicon interaction by phosphine plasma treatment

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EID: 0032375674     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.581074     Document Type: Article
Times cited : (7)

References (12)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.