Planar thin film YBa2Cu3O7-δ Josephson junctions via nanolithography and ion damage

Applied Physics Letters

Volumn 72, Issue 16, 1998, Pages 2032-2034

  Katz, A S ^a   Sun, A G ^b   Woods, S I ^a   Dynes, R C ^a  

^a UNIVERSITY OF CALIFORNIA   (United States)

^b NORTHROP GRUMMAN CORPORATION   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

CURRENT DENSITY; CURRENT VOLTAGE CHARACTERISTICS; HIGH TEMPERATURE SUPERCONDUCTORS; ION BEAMS; ION IMPLANTATION; NANOTECHNOLOGY; OXIDE SUPERCONDUCTORS; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY; SUBSTRATES; SUPERCONDUCTING FILMS;

AC JOSEPHSON EFFECTS; DC JOSEPHSON EFFECTS; ION DAMAGE; SCANNING ELECTRON MICROSCOPY MEASUREMENTS;

JOSEPHSON JUNCTION DEVICES;

EID: 0032046210     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.121255     Document Type: Article

References (26)

1. D. Dimos, P. Chaudhari, and J. Mannhart, Phys. Rev. B 41, 4038 (1990).
2. K. Char, M. S. Colclough, T. H. Geballe, and K. E. Myers, Appl. Phys. Lett. 62, 196 (1993).
3. K. Char, L. Antognazza, and T. H. Geballe, Appl. Phys. Lett. 65, 904 (1994).
4. B. D. Hunt, M. G. Forrester, J. Talvaccio, J. D. McCambridge, and R. M. Young, Appl. Phys. Lett. 68, 3805 (1996).
5. J. M. Valles, Jr., A. E. White, K. T. Short, R. C. Dynes, J. P. Garno, A. F. J. Levi, M. Anzlowar, and K. Baldwin, Phys. Rev. B 39, 11599 (1989).
6. G. J. Clark, A. D. Marwick, R. H. Koch, and R. B. Laibowitz, Appl. Phys. Lett. 51, 139 (1987).
7. A. E. White, K. T. Short, R. C. Dynes, A. F. J. Levi, M. Anzlowar, K. W. Baldwin, P. A. Polakos, T. A. Fulton, and L. N. Dunkleberger, Appl. Phys. Lett. 53, 1010 (1988).
8. C. H. Arrington, III and B. S. Deaver, Jr., Appl. Phys. Lett. 26, 204 (1975).
9. S. S. Tinchev, Physica C 256, 191 (1996).
10. P. Seidel, F. Schmidl, F. Machalett, H. Schneidewind, A. Pfuch, and U. Hubner, in Oxide Superconductor Physics and Nano-engineering II, San Jose, CA (SPIE, Bellingham, Wa, 1996), pp. 479-486.
11. J. Hollkott, S. Hu, C. Becker, J. Auge, B. Spangenberg, H. Kurz, N. D. Zakharov, D. Hesse, and B. Hollander, IEEE Trans. Appl. Supercond. 7, 3674 (1997).
12. L. R. Harriott, P. A. Polakos, C. E. Rice, P. Gammel, and others, in Electron-beam, X-ray, and Ion Beam Technologies: Submicrometer Lithography IX, San Jose, CA (SPIE, Bellingham, Wa, 1990), pp. 53-61.
13. M. J. Zani, J. A. Luine, R. W. Simon, and R. A. Davidheiser, Appl. Phys. Lett. 59, 234 (1991).
14. A. J. Pauza, D. F. Moore, A. M. Campbell, A. N. Broers, and K. Char, IEEE Trans. Appl. Supercond. 5, 3410 (1995).
15. B. A. Davidson, J. E. Nordman, B. M. Hinaus, M. S. Rzchowski, K. Siangchaew, and M. Libera, Appl. Phys. Lett. 68, 3811 (1996).
16. S. K. Tolpygo, S. Shokhor, B. Nadgorny, J.-Y. Lin, M. Gurvitch, A. Bourdillon, S. Y. Hou, and J. M. Phillips, Appl. Phys. Lett. 63, 1696 (1993).
17. M. G. Blamire, W. E. Booij, A. J. Pauza, E. J. Tarte, and D. F. Moore, IEEE Trans. Appl. Supercond. 7, 2856 (1997).
18. A. G. Sun, L. M. Paulius, D. A. Gajewski, M. B. Maple, and R. C. Dynes, Phys. Rev. B 50, 3266 (1994).
19. R. Contreras, M.S. Thesis, University of California, San Diego, 1997.
20. B. M. Hinaus, M. S. Rzchowski, B. A. Davidson, J. E. Nordman, K. Siangchaew, and M. Linera, Phys. Rev. B 56, 10828 (1997).
21. P. A. Rosenthal, M. R. Beasley, K. Char, M. S. Colclough, and G. Zaharchuk, Appl. Phys. Lett. 59, 3482 (1991).
22. L. Solymar, Superconductive Tunnelling and Applications, 1st ed. (Wiley-Interscience, New York, 1972).
23. L. Antognazza, S. J. Berkowitz, T. H. Geballe, and K. Char, Phys. Rev. B 51, 8560 (1995).
24. P. G. de Gennes, Rev. Mod. Phys. 36, 225 (1964).
25. L. Antognazza, B. H. Moeckly, T. H. Geballe, and K. Char, Phys. Rev. B 52, 4559 (1995).
26. P. N. Guzdar, A. S. Sharma, and S. K. Guharay, Appl. Phys. Lett. 71, 3302 (1997).