Infrared diode laser absorption spectroscopy measurements of CFx (X=1-3) radical densities in electron cyclotron resonance plasmas employing C4F8, C2F6, CF4, and CHF3 gases

Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films

Volumn 14, Issue 4, 1996, Pages 2343-2350

  Miyata, Koji ^a   Hori, Masaru ^a   Goto, Toshio ^a  

^a NAGOYA UNIVERSITY   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0030520062     PISSN: 07342101     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.580020     Document Type: Article

References (30)

1. K. Suzuki, S. Okudaira, N. Sakudo, and I. Kanomata, Jpn. J. Appl. Phys. 16, 1979 (1977).
2. S. Samukawa, Jpn. J. Appl. Phys. 32, 6080 (1993).
3. K. Takahashi, M. Hori, S. Kishimoto, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys.33, 4181 (1994).
4. L. M. Ephrath, J. Electrochem. Soc. 126, 1419 (1979).
5. O. Joubert, G. S. Oehrlein, and Y. Zhang, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 658 (1994).
6. O. Joubert, G. S. Oehrlein, and M. Surendra, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 665 (1994).
7. S. Arai, K. Tsujimoto, and S. Tachi, Jpn. J. Appl. Phys. 31, 2011 (1992).
8. R. d'Agostino, P. Capezzuto, G. Bruno, and F. Cramarossa, Pure Appl. Chem. 57, 1287 (1985).
9. J. Dulak, B. J. Howard, and Ch. Steinbruchel, J. Vac. Sci. Technol. A 9, 775 (1991).
10. K. Takahashi, M. Hori, K. Maruyama, S. Kishimoto, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys. 32, L694 (1993).
11. K. Takahashi, M. Hori, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys. 32, L1088 (1993).
12. K. Miyata, K. Takahashi, S. Kishimoto, M. Hori, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys. 34, L444 (1995).
13. K. Kawaguchi, C. Yamada, Y. Hamada, and E. Hirota, J. Mol. Spectrosc. 86, 136 (1981).
14. P. B. Davies, W. Lewis-Bevan, and D. K. Russell, J. Chem. Phys. 75, 5602 (1981).
15. C. Yamada and E. Hirota, J. Chem. Phys. 78, 1703 (1983).
16. M. Magane, N. Itabashi, N. Nishiwaki, T. Goto, C. Yamada, and E. Hirota, Jpn. J. Appl. Phys. 29, L829 (1990).
17. K. Maruyama, A. Sakai, and T. Goto, J. Phys. D 26, 199 (1993).
18. K. Takahashi, M. Hori, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 4745 (1994).
19. J. W. Cobum and M. Chen, J. Appl. Phys. 51, 3134 (1980).
20. K. Maruyama, K. Ohkouchi, Y. Ohtsu, and T. Goto, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 4298 (1994).
21. H. C. Sun, V. Patel, E. A. Whittaker, B. Singh, and J. H. Thomas III, J. Vac. Sci. Technol. A 11, 1193 (1993).
22. K. Miyata, M. Hori, and T. Goto, J. Vac. Sci. Technol. A 14, 2343 (1996).
23. K. Ninomiya, K. Suzuki, S. Nishimatsu, and O. Okada, J. Vac. Sci. Technol. A4, 1791 (1986).
24. H. F. Winters and M. Inokuti, Phys. Rev. A 3, 1420 (1982).
25. Y. Hikosaka, M. Nakamura, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 2157 (1994).
26. M. Goto, K. Nakamura, H. Toyoda, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys. 33, 3602 (1994).
27. C. P. Tsai and D. L. McFadden, J. Phys. Chem. 93, 2471 (1989).
28. K. Sato, K. Kojima, M. Kawasaki, Y. Matsuzaki, T. Hirano, M. Nakano, and H. Koinuma, J. Appl. Phys. 65, 2145 (1989).
29. K. Maruyama and T. Goto, J. Phys. D 28, 884 (1995).
30. Y. Hikosaka, H. Toyoda, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys. 32, L690 (1993).