Ion sheath expansion for a target voltage with a finite risetime

Physics of Plasmas

Volumn 6, Issue 10, 1999, Pages 4123-4126

  Uhm, Han S ^a   Kim, Gon H ^b   Kim, Young W ^b   Kim, Gun W ^b   Han, Seung H ^b   Hong, Mun P ^b  

^a Ajou University   (South Korea)

^b Hanyang University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0013289690     PISSN: 1070664X     EISSN: 10897674     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.873673     Document Type: Letter

References (24)

1. H. S. Uhm, Phys. Lett. A PYLAAG 234, 127 (1997).
2. H. S. Uhm, Phys. Plasmas PHPAEN 5, 818 (1998).
3. R. H. Varey and K. F. Sander, Br. J. Appl. Phys., J. Phys. D JPDBAK 2, 541 (1969).
4. K. F. Sander, J. Plasma Phys. JPLPBZ 3, 353 (1969).
5. J. G. Andrews and R. H. Varey, Phys. Fluids PFLDAS 14, 339 (1971).
6. M. Widner, I. Alexeff, W. D. Jones, and K. E. Lonngren, Phys. Fluids PFLDAS 13, 2532 (1970).
7. J. R. Conrad, J. Appl. Phys. JAPIAU 62, 777 (1987).
8. J. R. Conrad, J. L. Radtke, R. A. Dodd, F. J. Worzala, and N. C. Tran, J. Appl. Phys. JAPIAU 62, 4591 (1987).
9. J. R. Conrad, R. A. Dodd, and S. Han, J. Vac. Sci. Technol. A JVTAD6 8, 3146 (1990).
10. H. S. Uhm and W. M. Lee, J. Appl. Phys. JAPIAU 69, 8056 (1991).
11. H. S. Uhm and W. M. Lee, Phys. Fluids B PFBPEI 3, 3188 (1991).
12. D. J. Rej and R. B. Alexander, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 12, 2380 (1994).
13. B. P. Wood, I. Henins, R. J. Gribble, W. A. Reass, R. J. Faehl, M. A. Nastasi, and D. J. Rej, J. Vac. Sci. Technol. B JVTBD9 12, 870 (1994).
14. C. P. Munson, R. J. Faehl, I. Henins, M. Nastasi, W. A. Reass, D. J. Rej, J. T. Scheuer, K. C. Walter, and B. P. Wood, Surf. Coat. Technol. SCTEEJ 84, 528 (1996).
15. J. T. Sheuer, M. Shamim, and J. R. Conrad, J. Appl. Phys. JAPIAU 67, 1241 (1990).
16. R. A. Stewart and M. A. Lieberman, J. Appl. Phys. JAPIAU 70, 3481 (1991).
17. B. P. Wood, J. Appl. Phys. JAPIAU 73, 4770 (1993).
18. G. A. Emmert and M. A. Henry, J. Appl. Phys. JAPIAU 71, 113 (1992).
19. R. R. Speth, G. A. Emmert, and M. J. Goechner, Appl. Phys. Lett. APPLAB 65, 2272 (1994).
20. T. E. Sheridan and M. C. Petcu, IEEE Trans. Plasma Sci. ITPSBD 23, 865 (1995).
21. T. E. Sheridan, Surf. Coat. Technol. SCTEEJ 85, 204 (1996).
22. M. Shamim, J. T. Scheuer, and J. R. Conrad, J. Appl. Phys. JAPIAU 69, 2904 (1991).
23. S. H. Han, Y. H. Lee, H. E. Lim, G. H. Kim, J. H. Lee, J. H. Yoon, and G. W. Kim, Surf. Coat. Technol. SCTEEJ 93, 261 (1997).
24. S. M. Malik, R. P. Fetherston, K. Sridharan, and J. R. Conrad, Plasma Sources Sci. Technol. PSTEEU 2, 81 (1993).