Electron attachment to boron trichloride

Journal of Applied Physics

Volumn 84, Issue 10, 1998, Pages 5805-5807

  Tav, Cumali ^a   Datskos, Panos G ^a   Pinnaduwage, Lal A ^a  

^a NONE

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0012520438     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.368846     Document Type: Article

References (17)

1. R. Nagpal and A. Garscadden, Appl. Phys. Lett. 64, 1626 (1994).
2. K. K. Baeck and R. J. Bartlett, J. Chem. Phys. 106, 4604 (1997).
3. R. A. Gottscho and C. E. Gaebe, IEEE Trans. Plasma Sci. PS-13, 92 (1986).
4. L. J. Overzet and L. Luo, Appl. Phys. Lett. 59, 161 (1991).
5. C. B. Fleddermann and G. A. Hebner, J. Vac. Sci. Technol. A 15, 1955 (1997).
6. P. G. Datskos, C. Tav, I. Sauers, and L. A. Pinnaduwage, J. Phys. D 30, 2596 (1997).
7. I. S. Buchel'nikova, Sov. Phys. JETP 35, 783 (1959).
8. Z. L. Petrovic, W. C. Wang, M. Suto, J. C. Han, and L. C. Lee, J. Appl. Phys. 67, 675 (1990).
9. J. A. Stockdale, D. R. Nelson, F. J. Davis, and R. N. Compton, J. Chem. Phys. 56, 3336 (1972).
10. D. K. Gibson, Aust. J. Phys. 23, 683 (1970).
11. S. R. Hunter and L. G. Christophorou, J. Chem. Phys. 80, 6150 (1984).
12. L. G. Christophorou, D. L. McCorkle, and V. E. Anderson, J. Phys. B 4, 1163 (1971).
13. M. W. Chase, C. A. Davies, J. R. Downey, D. J. Frurip, R. A. McDonald, and A. N. Syverud, J. Phys. Chem. Ref. Data 14, Suppl. No. 1 (1985).
14. E. W. Rothe, B. P. Mathur, and G. P. Reck, Inorg. Chem. 19, 829 (1980).
15. C. J. Schutte, J. Chem. Phys. 51, 4678 (1969).
16. W. L. Morgan (private communication, 1998).
17. L. A. Pinnaduwage and P. G. Datskos, J. Appl. Phys. 81, 7715 (1997).