Deep levels in virtually unstrained InGaAs layers deposited on GaAs

Journal of Applied Physics

Volumn 84, Issue 5, 1998, Pages 2965-2967

  Pal, D ^a   Gombia, E ^a   Mosca, R ^a   Bosacchi, A ^a   Franchi, S ^a  

^a CNR   (Italy)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0007598421     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.368404     Document Type: Article

References (20)

1. Y. Ashizawa, S. Akbar, W. J. Schaff, L. F. Eastman, E. A. Fitzgerald, and D. G. Ast, J. Appl. Phys. 64, 4065 (1988).
2. M. Kudo, T. Mishima, and M. Washima, Appl. Phys. Lett. 64, 628 (1994).
3. N. K. Dutta, J. Lapata, J. D. Wynn, D. L. Sivco, and A. Y. Cho, Electron. Lett. 26, 1816 (1990).
4. W. Dobbelaere, J. De Boeck, P. Heremans, R. Mertens, G. Borghs, W. Luyten, and J. Van Landuyt, Appl. Phys. Lett. 60, 868 (1992).
5. I: J. Fritz, B. E. Hammons, A. J. Howard, and T. M. Brennan, Appl. Phys. Lett. 62, 919 (1993).
6. J. W. Matthews and A. E. Blakeslee, J. Cryst. Growth 27, 118 (1974).
7. R. People and J. C. Bean, Appl. Phys. Lett. 47, 322 (1985).
8. P. N. Grillot, S. A. Ringel, E. A. Fitzgerald, G. P. Watson, and Y. H. Xie, J. Appl. Phys. 77, 676 (1995).
9. P. N. Grillot, S. A. Ringel, E. A. Fitzgerald, G. P. Watson, and Y. H. Xie, J. Appl. Phys. 77, 3248 (1995).
10. B. Chatterjee, S. A. Ringel, R. Sieg, R. Hoffman, and I. Weinberg, Appl. Phys. Lett. 65, 58 (1994).
11. U. K. Chakrabarti, S. J. Pearton, W. S. Hobson, J. Lopata, and V. Swaminathan, Appl. Phys. Lett. 57, 887 (1990).
12. S. A. Ringel, Solid-State Electron. 41, 359 (1997).
13. G. P. Watson, D. G. Ast, T. J. Anderson, B. Pathangay, and Y. Hayakawa, J. Appl. Phys. 71, 3399 (1992).
14. Y. W. Choi, K. Xie, H. M. Kim, and C. R. Wie, J. Electron. Mater. 20, 545 (1991).
15. Y. Uchida, H. Kakibayashi, and S. Goto, J. Appl. Phys. 74, 6720 (1993).
16. J. Tersoff, Appl. Phys. Lett. 62, 693 (1993).
17. A. Bosacchi, A. C. De Riccardis, P. Frigeri, S. Franchi, C. Ferrari, S. Gennari, L. Lazzarini, L. Nasi, G. Salviati, A. V. Drigo, and F. Romanato, J. Cryst. Growth 175/176, 1009 (1997), and references therein.
18. T. Wosinski, A. Makosa, T. Figielski, and J. Raczynska, Appl. Phys. Lett. 67, 1131 (1995).
19. T. Wosinski, J. Appl. Phys. 65, 1566 (1989).
20. D. V. Lang, A. Y. Cho, A. C. Gossard, M. Ilegems, and W. Wiegmann, J. Appl. Phys. 47, 2558 (1976).