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Volumn 82, Issue 8, 1997, Pages 4102-4107

Experimental determination of the frequency factor of thermal annealing processes in metal-oxide-semiconductor gate-oxide structures

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EID: 0006472631     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.365721     Document Type: Article
Times cited : (22)

References (15)
  • 15
    • 85033170990 scopus 로고
    • thèse de doctorat en Sciences de l'Ecole Nationale Supérieure de l'Aeronautique et de l'Espace, France
    • E. Mondot, thèse de doctorat en Sciences de l'Ecole Nationale Supérieure de l'Aeronautique et de l'Espace, France (1993).
    • (1993)
    • Mondot, E.1


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.