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Volumn 80, Issue 1, 1996, Pages 551-558

Growth of Er-doped silicon using metalorganics by plasma-enhanced chemical vapor deposition

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EID: 0003686632     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.362759     Document Type: Article
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References (29)


* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.