Electrical characterization, metallurgical investigation, and thermal stability studies of (Pd, Ti, Au)-based ohmic contacts

Journal of Applied Physics

Volumn 87, Issue 5, 2000, Pages 2437-2444

  Chor, E F ^a   Zhang, D ^a   Gong, H ^a   Chong, W K ^a   Ong, S Y ^a  

^a NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE   (Singapore)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001521794     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.372198     Document Type: Article

References (21)

1. K. Kurishima, H. Nakajima, T. Kobayashi, Y. Matsuoka, and T. Ishibashi, IEEE Trans. Electron Devices 41, 1319 (1994).
2. T. C. Shen, G. B. Gao, and H. Morkoc, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2113 (1992).
3. B. Willen, U. Westergren, and H. Asonenm, IEEE Electron Device Lett. 16, 479 (1995).
4. E. F. Chor, W. K. Chong, and C. H. Heng, J. Appl. Phys. 84, 2977 (1998).
5. W. X. Chen, S. C. Hsueh, P. K. Yu, and S. S. Lau, IEEE Electron Device Lett. 7, 471 (1986).
6. T. Sands, V. G. Keramidas, A. J. Yu, K. M. Yu, R. Gronsky, and J. Washburn, J. Mater. Res. 2, 262 (1987).
7. B. M. Henry, A. E. Staton-Bevan, V. K. M. Shama, M. A. Crouch, and S. S. Gill, J. Electron. Mater. 21, 929 (1992).
8. W. Y. Han, Y. Lu, H. S. Lee, M. W. Cole, L. M. Casas, A. DeAnni, K. A. Jones, and L. W. Yang, J. Appl. Phys. 74, 754 (1993).
9. M. W. Cole, W. Y. Han, L. M. Casas, D. W. Eckart, and K. A. Jones, J. Vac. Sci. Technol. A 12, 1904 (1994).
10. K. S. Sandhu, A. E. S.-Bevan, and M. A. Crouch, Mater. Sci. Technol. 11, 1083 (1995).
11. E. D. Marshall, W. X. Chen, C. S. Wu, S. S. Lau, and T. F. Kuech, Appl. Phys. Lett. 47, 298 (1985).
12. K. A. Jones, M. W. Cole, W. Y. Han, D. W. Eckart, K. P. Hilton, M. A. Crouch, and B. H. Hughes, J. Appl. Phys. 82, 1723 (1997).
13. P. Machac and J. Nahlik, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 6, 115 (1995).
14. T. Sands, V. G. Keramidas, K. M. Yu, J. Washburn, and K. Krishnan, J. Appl. Phys. 62, 2070 (1987).
15. A. Katz, S. Nakahara, W. Savin, and B. E. Weir, J. Appl. Phys. 68, 4133 (1990).
16. C. M. Aldao, G. D. Waddill, S. G. Anderson, and J. H. Weaver, Phys. Rev. B 40, 2932 (1989).
17. K. B. Kim, M. Kniffin, R. Sinclair, and C. R. Helm, J. Vac. Sci. Technol. A 6, 1473 (1988).
18. H. Okada, S. I. Shikata, and H. Hayashi, Jpn. J. Appl. Phys., Part 2 30. L558 (1991).
19. Z. Liliental-Weber, E. R. Weber, and N. Newman, in Contacts to Semiconductors: Fundamentals and Technology, edited by L. J. Brillson (Noyes, New Jersey, 1993), p. 438.
20. Powder diffraction file: PDF-2database (computer file), Newtown Square, Pa.: International Centre for Diffraction Data Publications, [199-].
21. Y. Ashizawa, C. Nozaki, T. Noda, and A. Sasaki, J. Electron. Mater. 25, 715 (1996).