Electron optical system for the x-ray mask writer EB-X2

Journal of Vacuum Science and Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures

Volumn 15, Issue 6, 1997, Pages 2279-2283

  Saito, Kenichi ^a   Morita, Hirofumi ^a   Kato, Junichi ^a   Shimazu, Nobuo ^a  

^a NTT CORPORATION   (Japan)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001518575     PISSN: 10711023     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1116/1.589629     Document Type: Article

References (14)

1. G. A. C. Jones, P. M. Sargent, T. S. Morris, and H. Ahmed, J. Vac. Sci. Technol. B 3, 124 (1985).
2. K. Reimer and S. Pongratz, J. Vac. Sci. Technol. B 7, 1603 (1989).
3. M. G. Rosenfield, S. A. Rishton, D. P. Kern, D. E. Seeger, and C. A. Whiting, J. Vac. Sci. Technol. B 8, 1763 (1990).
4. M. A. McCord, R. Viswanathan, F. J. Hohn, A. D. Wilson, and R. Naumann, J. Vac. Sci. Technol. B 10, 2764 (1992).
5. B. H. Koek, T. Chisholm, J. Somers, J. Davey, J. Romijn, and A. J. v. Run, J. Vac. Sci. Technol. B 12, 3409 (1994).
6. R. Mimura, M. Kinokuni, H. Sawaragi, and R. Aihara, Proc. Microelectron. Eng. 30, 73 (1996).
7. R. Butsch, W. A. Enichen, M. G. Gordon, T. R. Groves, J. G. Hartley, J. W. Pavick, H. C. Pfeiffer, R. J. Quickie, J. D. Rockrohr, and W. Stickel, J. Vac. Sci. Technol. B 13, 2478 (1995).
8. S. Uchiyama, S. Ohki, A. Ozawa, M. Oda, T. Matsuda, and T. Morosawa, Jpn. J. Appl. Phys. 34, 6743 (1995).
9. P. F. Petric, M. S. Gordon, J. J. Senesi, and D. F. Haire, J. Vac. Sci. Technol. B 11, 2309 (1993).
10. N. Shimazu, T. Watanabe, T. Morosawa, H. Morita, Y. Kuriyama, and T. Kunioka, Proc. SPIE 2254, 142 (1994).
11. K. Saito, J. Kato, N. Shimazu, and A. Shimizu, Jpn. J. Appl. Phys. 35, 6435 (1996).
12. H. C. Pfeiffer, J. Vac. Sci. Technol. 15, 887 (1978).
13. T. Hosokawa and H. Morita, J. Vac. Sci. Technol. B 1, 1293 (1983).
14. K. Kanaya, H. Kawakatsu, and H. Yamazaki, Br. J. Appl. Phys. 16, 991 (1965).