Magnetic anisotropy and strain states of (001) and (110) colossal magnetoresistance thin films

Applied Physics Letters

Volumn 77, Issue 18, 2000, Pages 2903-2905

  Berndt, L M ^a   Balbarin, Vincent ^b   Suzuki, Y ^b  

^a Department of Obstetrics Gynecology   (United States)

^b Cornell University   (United States)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

EID: 0001355273     PISSN: 00036951     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.1321733     Document Type: Article

References (20)

1. R. V. Helmolt, J. Wecker, B. Holzapfel, L. Schultz, and K. Samwer, Phys. Rev. Lett. 71, 2331 (1993).
2. H. L. Ju, C. Kwon, Q. Li, R. L. Greene, and T. Venkatesan, Appl. Phys. Lett. 65, 2108 (1994).
3. M. E. Hawley, X. D. Wu, P. N. Arendt, C. D. Adams, M. F. Hundley, and R. H. Heffner, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 401, 531 (1995).
4. S. Jin, T. H. Tiefel, M. McCormack, H. M. O'Bryan, L. H. Chen, R. Ramesh, and D. Schurig, Appl. Phys. Lett. 67, 557 (1995).
5. S. K. Lofland, S. M. Bhagat, H. L. Ju, G. C. Xiong, T. Venkatesan, R. L. Greene, and S. Tyagi, J. Appl. Phys. 79, 5166 (1996).
6. C. Kwon, K.-C. Kim, M. C. Rohson, S. E. Lofland, S. M. Bhagal, T. Venkatesan, R. Ramesh, and R. D. Gomez, J. Magn. Magn. Mater. 172, 229 (1997).
7. K. A. Thomas, P. S. I. P. N. de Silva, L. F. Cohen, A. Hossain, M. Rajeswari, T. Venkatesan, R. Hiskes, and J. L. MacManus-Driscoll, J. Appl. Phys. 84, 3939 (1999).
8. K. Steenbeck and R. Hiergeist, Appl. Phys. Lett. 75, 1778 (1999).
9. P. Lecoeur, P. L. Trouillard, G. Xiao, A. Gupta, G. Q. Ging, and X. W. Li, J. Appl. Phys. 82, 3934 (1997).
10. T. K. Nath, R. A. Rao, D. Lavric, C. B. Eom, L. Wu, and F. Tsui, Appl. Phys. Lett. 74, 1615 (1999).
11. Y. Konishi, M. Kasai, M. Izumi, M. Kawasaki, and Y. Tokura, Mater. Sci. Eng., B 56, 158 (1999).
12. Y. Suzuki, H. Y. Hwang, S.-W. Cheong, and R. B. van Dover, Appl. Phys. Lett. 71, 140 (1997).
13. R. L. Schwoebel and E. J. Shipsey, J. Appl. Phys. 37, 3628 (1966); G. Ehrlich and F. G. Hudda, J. Chem. Phys. 44, 1039 (1966).
14. R. L. Schwoebel and E. J. Shipsey, J. Appl. Phys. 37, 3628 (1966); G. Ehrlich and F. G. Hudda, J. Chem. Phys. 44, 1039 (1966).
15. J. W. Matthews, A. E. Blakeslee, and S. Mader, Thin Solid Films 33, 253 (1976).
16. W. D. Nix, Metall. Trans. A 20A, 2217 (1988).
17. M. Ibarra, P. A. Algarabel, C. Marquina, J. Blasco, and J. Garcia, Phys. Rev. Lett. 75, 3541 (1995); J. J. Neumeier, K. Andres, and K. J. McClellan, Phys. Rev. B 59, 1701 (1999).
18. M. Ibarra, P. A. Algarabel, C. Marquina, J. Blasco, and J. Garcia, Phys. Rev. Lett. 75, 3541 (1995); J. J. Neumeier, K. Andres, and K. J. McClellan, Phys. Rev. B 59, 1701 (1999).
19. Y. Suzuki, H. Hwang, S.-W. Cheong, T. Siegrist, R. B. van Dover, A. Asamitsu, and Y. Tokura, J. Appl. Phys. 83, 7064 (1998); T. M. Perekalina, I. E. Lipinski, V. A. Timofeva, and S. A. Cherkezyan, Sov. Phys. Solid State 32, 1827 (1990).
20. Y. Suzuki, H. Hwang, S.-W. Cheong, T. Siegrist, R. B. van Dover, A. Asamitsu, and Y. Tokura, J. Appl. Phys. 83, 7064 (1998); T. M. Perekalina, I. E. Lipinski, V. A. Timofeva, and S. A. Cherkezyan, Sov. Phys. Solid State 32, 1827 (1990).