Surfactant-catalyzed chemical vapor deposition of copper thin films

Chemistry of Materials

Volumn 12, Issue 8, 2000, Pages 2076-2081

  Hwang, Eui Seong ^a   Lee, Jihwa ^a  

^a Seoul National University   (South Korea)

Author keywords

[No Author keywords available]

Indexed keywords

COPPER; IODINE; SURFACTANT;

ARTICLE; CATALYSIS; ENERGY; FILM; GAS CHROMATOGRAPHY; MASS SPECTROMETRY; VAPOR;

EID: 0001177886     PISSN: 08974756     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1021/cm990805+     Document Type: Article

References (28)

1. (a) Murarka, S. P. Mater. Sci. Eng., R. 1987, 19, 87.
2. (b) Gelatos, A. V.; Jain, A.; Marsh, R.; Mogab, C. J. MRS Bull. 1994, 19, 49.
3. Kodas, T. T.; Hampden-Smith, M. J. The Chemistry of Metal CVD; VCH: Weinheim, 1994.
4. Jain, A.; Chi, K.-M.; Kodas, T. T.; Hampden-Smith, M. J.; Farr, J. D.; Paffett, M. F. Chem. Mater. 1991, 3, 995.
5. (a) Chi, K.-M.; Shin, H.-K.; Hampden-Smith, M. J.; Duesler, E. N.; Kodas, T. T. Polyhedron 1991, 10, 2293.
6. (b) Reynolds, S. K.; Smart, C. J.; Baran, E. F. Appl. Phys. Lett. 1991, 59, 2332.
7. Dubois, L. H.; Zegarski, B. R. J. Electrochem. Soc. 1992, 139, 3295.
8. (a) Girolami, G. S.; Jeffries, P. M.; Dubois, L. H. J. Am. Chem. Soc. 1993, 115, 1015.
9. (b) Cohen, S. L.; Liehr, M.; Kasi, S. J. Vac. Sci. Technol. A 1992, 10, 863.
10. (a) Stickney, J. L.; Rosasco, S. D.; Hubbard, A. T. J. Electrochem. Soc. 1984, 131, 260.
11. (b) Hubbard, A. T. Chem. Rev. 1988, 88, 633.
12. Sieradzki, K.; Brankovic, S. R.; Dimitrov, N. Science 1999, 284, 139.
13. Lin, J.-L.; Bent, B. E. J. Phys. Chem. 1992, 96, 8529.
14. 5I exposure to Cu(111) up to saturation above 250 K was estimated as ∼0.1 ML on the basis of AES measurements.
15. (a) Chiou, J. C.; Juang, K. C.; Chen, M. C. J. Electrochem. Soc. 1995, 142, 177.
16. (b) Webb, J. B.; Northcott, D.; Emesh, I. Thin Solid Films 1995, 270, 483.
17. Hwang, E. S.; Lee, J. J. Vac. Sci. Technol. B 1998, 16, 3015.
18. Lin, J.-L.; Bent, B. E. J. Phys. Chem. 1993, 97, 9713.
19. Camarero, J.; Ferron, J.; Cros, V.; Gomez, L.; Vazquez de Parga, A. L.; Gallego, J. M.; Prieto, J. E.; de Miguel, J. J.; Miranda, R. Phys. Rev. Lett. 1998, 81, 850.
20. Jain, A.; Kodas, T. T.; Corbitt, T. S.; Hampden-Smith, M. J. Chem. Mater. 1996, 8, 1119.
21. Hwang, E. S.; Lee, J. Electrochem. Solid State Lett., in press.
22. Steigerwald, D. A.; Jacob, I.; Egelhoff, W. F., Jr. Surf. Sci. 1988, 202, 472.
23. Copel, M.; Reuter, M. C.; Kaxiras, E.; Tromp, R. M. Phys. Rev. Lett. 1989, 63, 632.
24. van der Vegt, H. A.; van Pinxteren, H. M.; Lohmeier, M.; Vlieg, E.; Thorton, J. M. C. Phys. Rev. Lett. 1992, 68, 3335.
25. Rosenfeld, G.; Servaty, R.; Teichart, C.; Poelsema, B.; Comsa, G. Phys. Rev. Lett. 1993, 71, 895.
26. Vrijmoeth, J.; van der Vegt, H. A.; Meyer, J. A.; Vlieg, E.; Behm, R. J. Phys. Rev. Lett. 1994, 72, 3843.
27. van der Vegt, H. A.; Breeman, M.; Ferrer, S.; Etgens, V. H.; Torrelles, X.; Fajardo, P.; Vlieg, E. Phys. Rev. B 1995, 51, 14806.
28. Tersoff, J.; Denier van der Gon, A. W.; Tromph, R. M. Phys. Rev. Lett. 1994, 72, 266.