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Volumn 84, Issue 5, 1998, Pages 2371-2379

The influence of "starving plasma" regime on carbon content and bonds in a-Si1-xCx:H thin films

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EID: 0000973862     PISSN: 00218979     EISSN: None     Source Type: Journal    
DOI: 10.1063/1.368436     Document Type: Article
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References (27)
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    • supplied by Kao Co. Akabane 2606, Ichikaimachi, Haga, Tochigi, Japan
    • UDAC (Ultra Dense Amorphous Carbon), supplied by Kao Co. Akabane 2606, Ichikaimachi, Haga, Tochigi, Japan 321-34.
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* 이 정보는 Elsevier사의 SCOPUS DB에서 KISTI가 분석하여 추출한 것입니다.